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J-GLOBAL ID：200903002420587323

ガス処理装置

Inventor： 武田 幸雄 ,  是洞 猛 ,  明田 功
Applicant, Patent owner： 岩崎電気株式会社 ,  石原産業株式会社
Agent (1)： 外山 三郎
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1995155351
Publication number (International publication number)：1996323129
Application date： May. 30, 1995
Publication date： Dec. 10, 1996
Summary：

【要約】【目的】設備が比較的簡単で、定期的な交換及び再生が不要なガス処理装置を提供する。【構成】粒状担持体の表面にアナタ-ス型の微粒子状の二酸化チタンが固定されてなる吸着酸化処理材を処理塔2内に充填して吸着酸化処理材層4となすと共に、処理塔内に紫外線ランプ5を配置し、被処理ガスを処理塔内に導入して吸着酸化処理材層を通過させることにより吸着酸化処理する。

Claim (excerpt)：

粒状担持体の表面にアナタ-ス型の微粒子状の二酸化チタンが固定されてなる吸着酸化処理材を処理塔内に充填して吸着酸化処理材層となすと共に、処理塔内に紫外線ランプを配置し、被処理ガスを処理塔内に導入して吸着酸化処理材層を通過させることにより吸着酸化処理することを特徴とするガス処理装置。

IPC (5)：

B01D 53/04 ,  B01D 53/86 ,  B01D 53/86 ZAB ,  B01J 21/06 ZAB ,  B01J 35/02

FI (5)：

B01D 53/04 Z ,  B01J 21/06 ZAB A ,  B01J 35/02 J ,  B01D 53/36 J ,  B01D 53/36 ZAB H