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J-GLOBAL ID：200903002433333770

レジスト塗布装置、レジスト塗布方法および半導体装置の製造方法

Inventor： 牛山 文明
Applicant, Patent owner： セイコーエプソン株式会社
Agent (3)： 上柳 雅誉 ,  藤綱 英吉 ,  須澤 修
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2003370640
Publication number (International publication number)：2005136186
Application date： Oct. 30, 2003
Publication date： May. 26, 2005
Summary：

【課題】レジスト液を廃棄することなく、塗布むらを防止することが可能なレジスト塗布装置、レジスト塗布方法および半導体装置の製造方法を提供する。【解決手段】気泡検出部5にて配管チューブ内を流れるレジスト液に含まれる気泡が検出されると、気泡粉砕部6は、超音波振動をレジスト液Rに印加し、レジスト液Rに含まれる気泡を粉砕してから、レジスト液Rをノズル7に送る。【選択図】図1

Claim 1：

レジスト液を吐出するノズルと、 前記レジスト液を送り出すポンプと、 前記ポンプから送り出されたレジスト液を前記ノズルに導く配管と、 前記配管内を流れるレジスト液に含まれる気泡を検出する気泡検出部と、 前記気泡検出部にて検出された気泡を粉砕する気泡粉砕部とを備えることを特徴とするレジスト塗布装置。

IPC (6)：

H01L21/027 ,  B05C5/00 ,  B05C11/00 ,  B05C11/10 ,  B05D3/00 ,  G03F7/16

FI (6)：

H01L21/30 564Z ,  B05C5/00 101 ,  B05C11/00 ,  B05C11/10 ,  B05D3/00 B ,  G03F7/16 501

F-Term (40)：

2H025AB16 ,  2H025EA04 ,  4D075AC08 ,  4D075AC64 ,  4D075AC78 ,  4D075AC84 ,  4D075AC91 ,  4D075BB13Y ,  4D075BB40Y ,  4D075BB42Y ,  4D075BB46Y ,  4D075BB66Z ,  4D075CA47 ,  4D075DA06 ,  4D075DA08 ,  4D075DB13 ,  4D075DB14 ,  4D075DC22 ,  4D075EA07 ,  4D075EA45 ,  4F041AA02 ,  4F041AA06 ,  4F041AB01 ,  4F041BA10 ,  4F041BA34 ,  4F041BA59 ,  4F042AA02 ,  4F042AA07 ,  4F042AB00 ,  4F042BA02 ,  4F042BA12 ,  4F042BA22 ,  4F042CA07 ,  4F042CB02 ,  4F042CB03 ,  4F042CB25 ,  4F042CC03 ,  4F042CC08 ,  4F042DH09 ,  5F046JA01

Patent cited by the Patent：

Cited by applicant (1)

• 特開昭62-25416号公報