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J-GLOBAL ID：200903002442253194

光導波路及びその製造方法

Inventor： 井本 克之 ,  堀 彰弘 ,  川又 繁
Applicant, Patent owner： 日立電線株式会社
Agent (1)： 絹谷 信雄
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1992214114
Publication number (International publication number)：1994059147
Application date： Aug. 11, 1992
Publication date： Mar. 04, 1994
Summary：

【要約】【目的】 コアとクラッドとの屈折率差が大きくて反りも小さく、かつ低損失な光導波路を提供する。また低コストな光導波路の製造方法も提供する。【構成】 基板1上にプラズマCVD法により、屈折率が1.46〜1.60の範囲内にあるSiOx(x=1.5〜1.9)を用いて略矩形状のコア2を形成し、コア2をそれよりも屈折率の低い材料からなる低屈折率材(クラッド3)で覆った。

Claim (excerpt)：

基板上にプラズマCVD法により、屈折率が1.46〜1.60の範囲内にあるSiOx(x=1.5〜1.9)を用いて略矩形状のコアを形成し、該コアをそれよりも屈折率の低い材料からなる低屈折率材で覆ったことを特徴とする光導波路。

IPC (3)：

G02B 6/12 ,  C03B 8/04 ,  H01L 21/205