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J-GLOBAL ID：200903002453831866

高温高圧流体の反応装置ならびに製造装置

Inventor： 鈴木 明 ,  新井 邦夫 ,  畑田 清隆 ,  若嶋 勇一郎
Applicant, Patent owner： 独立行政法人産業技術総合研究所
Agent (1)： 須藤 政彦
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2004358904
Publication number (International publication number)：2006159165
Application date： Dec. 10, 2004
Publication date： Jun. 22, 2006
Summary：

【課題】短時間で昇温可能な、マイクロスケールの高温高圧流体反応装置、及び高温高圧流体製造装置を提供する。【解決手段】作動流体を高温高圧場において反応させるための高温高圧流体反応装置において、予熱器内の金属細管を、直接通電又は電磁誘導方式により発熱させ、金属細管内の作動流体を間接熱交換により昇温させる、予熱器、反応器、及び冷却器を順次配設した高温高圧流体反応装置、及び該予熱器よりなる高温高圧流体製造装置。【効果】 高温高圧条件を迅速に作り、効率よく温度制御と化学反応を行わせることが可能である。【選択図】図2

Claim 1：

予熱器、反応器、及び冷却器を配設した高温高圧流体反応装置において、金属細管で構成された予熱器、及び該金属細管内の作動流体を、直接通電又は電磁誘導方式により間接加熱する手段、を有することを特徴とする高温高圧流体反応装置。

IPC (2)：

B01J 3/00 ,  B01J 3/04

FI (3)：

B01J3/00 A ,  B01J3/04 D ,  B01J3/04 F

F-Term (3)：

3K059AB23 ,  3K059AD02 ,  3K059CD75

Patent cited by the Patent：

Cited by applicant (3)

• マイクロリアクターチップ
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願2002-370406   Applicant：三上幸一, 山中正浩, 工藤憲一, 富士電機システムズ株式会社
• スルホン酸型界面活性剤含有組成物
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願2001-310489   Applicant：花王株式会社
• ラクタムの製造法
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願2002-316889   Applicant：独立行政法人産業技術総合研究所

Cited by examiner (5)

• 特表平6-511190
  
• 特表平6-511190
  
• 有機化合物の分解方法
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願2000-310141   Applicant：富士写真フイルム株式会社
• 特表平6-511190
  
• 特表平6-511190