Pat
J-GLOBAL ID：200903002460624469
アンテナパターンを調整する方法及び装置
Inventor：
,
,
Applicant, Patent owner：
Agent (1)：
中村 稔 (外9名)
Gazette classification：公表公報
Application number (International application number)：1999530136
Publication number (International publication number)：2001510668
Application date： Dec. 01, 1998
Publication date： Jul. 31, 2001
Summary：
【要約】特に、送信器及び受信器が少なくとも2つのアンテナを含むSDMAシステムにおいてアンテナパターンを調整するための方法及び装置が提供される。基本帯域信号は、アンテナパターンを整形する係数で乗算され、所望のアンテナパターンが形成される。基本帯域アンテナ信号の位相及び強度が測定される。この測定に基づき、アンテナパターンを整形する係数を調整することによりアンテナ信号間の位相及び強度の差が補償される。
Claim (excerpt)：
アンテナ信号を送信する複数の送信器及びアンテナ信号を受信する複数の受信器の少なくとも1つに効果的に接続される複数のアンテナのアンテナアレーに対しアンテナパターンを調整する方法において、 (a)各アンテナごとに、各アンテナ信号に、アンテナアレーのアンテナパターンを整形する係数を乗算して、所望アンテナパターンの第1の繰り返しを形成し; (b)上記所望アンテナパターンを形成するのに使用される各アンテナ信号から、ある位相及び強度を有する各デジタル化された基本帯域信号を収集及び形成し、上記各デジタル化された基本帯域信号の位相及び強度を測定し、それにより、各デジタル化された基本帯域信号の位相及び強度間の差を決定し;そして (c)上記係数を調整することにより上記差を補償して、上記所望アンテナパターンのその後の繰り返しを形成する、という段階を備えたことを特徴とする方法。
IPC (3)：
H04B 7/10
, H01Q 3/26
, H04B 7/04
H04B 7/10 A
, H01Q 3/26 Z
, H04B 7/04
