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J-GLOBAL ID：200903002500292332

マグネトロンスパッタ装置

Inventor： 濱田 普一 ,  浅川 吉幸 ,  槙 孝一郎 ,  原 庸 ,  中西 功次
Applicant, Patent owner： 住友金属鉱山株式会社 ,  日本板硝子株式会社
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1993330875
Publication number (International publication number)：1995188918
Application date： Dec. 27, 1993
Publication date： Jul. 25, 1995
Summary：

【要約】【構成】 磁界発生機構1が、中心磁極2とこれを囲む外周磁極3とからなる磁極対と、該磁極対の底面に配置された磁気ヨーク材4と、該磁極対の上方に配置された軟磁性体5とから構成され、該磁界発生機構1上にバッキングプレート6と、ターゲット材7とが順次配置されているマグネトロンスパッタ装置であって、磁界発生機構1がターゲット材7の鉛直方向の中心軸に対して非対称に構成される、または、磁極対の鉛直方向の断面が、ターゲット材7の鉛直方向の中心軸に対して非対称な形状である、または、磁極対と、ターゲット材7と、軟磁性体5とのうち、いずれかの鉛直方向の中心軸が、他の鉛直方向の中心軸と一致しないように配置してあるマグネトロンスパッタ装置。【効果】 ターゲット材の利用効率、スパッタ時の成膜速度が向上する。

Claim (excerpt)：

磁界発生機構が、中心磁極とこれを囲む外周磁極とからなる磁極対と、該磁極対の底面に配置された磁気ヨーク材と、該磁極対の上方に配置された軟磁性体とから構成され、該磁界発生機構上にバッキングプレートと、ターゲット材とが順次配置されているマグネトロンスパッタ装置において、該磁界発生機構が該ターゲット材の鉛直方向の中心軸に対して非対称に構成されていることを特徴とするマグネトロンスパッタ装置。