Pat
J-GLOBAL ID:200903002513011030
光照射によって接触角が小さくなる表面特性を有するインジウム系複合酸化物薄膜とそれを用いたコーティング材料
Inventor:
,
Applicant, Patent owner:
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):2005073492
Publication number (International publication number):2006255525
Application date: Mar. 15, 2005
Publication date: Sep. 28, 2006
Summary:
【課題】 光を照射するという簡単な処理を施すことによって接触角が非常に小さくし、これによって親水性を示し、親油性も示す、インジウム以外に他の金属元素も含む、インジウム系複合酸化物からなる薄膜とこの薄膜を利用したコーティング材料を提供する。 【解決手段】 ゾルーゲル法、スパッタ法、CVD法、PLD法等各種成膜手段によって、一般式InMO4(ただし、Mは、V、Nb、Taからなる群の1種または2種以上の金属元素)で表される複合酸化物半導体薄膜からなり、光が照射されることによって暗所においても水濡れ性が長期にわたり持続して発現し、しかも親油性をも発現する、一般式InMO4(ただし、Mは、V、Nb、Taからなる群の1種または2種以上の金属元素)で表される複合酸化物半導体薄膜を形成する。【選択図】 図1
Claim 1:
一般式InMO4(ただし、Mは、V、Nb、Taからなる群の1種または2種以上の金属元素)で表される複合酸化物半導体薄膜からなり、光が照射されることによって暗所においても水濡れ性が長期にわたり持続して発現し、しかも親油性をも発現する、複合酸化物系親水性・親油性薄膜。
IPC (6):
B01J 23/20
, B01J 35/02
, C01G 15/00
, C09D 1/00
, C09D 5/00
, C09D 5/16
FI (6):
B01J23/20 M
, B01J35/02 J
, C01G15/00 B
, C09D1/00
, C09D5/00 Z
, C09D5/16
F-Term (26):
4G169AA02
, 4G169BA48A
, 4G169BB06A
, 4G169BB06B
, 4G169BC18A
, 4G169BC18B
, 4G169BC54A
, 4G169BC55A
, 4G169BC55B
, 4G169BC56A
, 4G169EA08
, 4G169FB02
, 4G169FB23
, 4G169HB06
, 4G169HD05
, 4G169HD06
, 4G169HD13
, 4G169HE06
, 4G169HE12
, 4J038HA211
, 4J038NA02
, 4J038NA05
, 4J038NA06
, 4J038PB05
, 4J038PC03
, 4J038PC08
Patent cited by the Patent:
Cited by examiner (4)
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可視光応答性光触媒及びそれを用いた水素製造方法と有害化学物質分解方法
Gazette classification:公開公報
Application number:特願2001-221148
Applicant:独立行政法人物質・材料研究機構
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ゲート酸化膜形成装置
Gazette classification:公開公報
Application number:特願2003-001135
Applicant:株式会社安川電機
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親水親油性部材
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平8-344584
Applicant:東陶機器株式会社
-
光触媒材料
Gazette classification:公開公報
Application number:特願2003-193564
Applicant:東陶機器株式会社
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Article cited by the Patent:
Cited by examiner (6)
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