Pat

J-GLOBAL ID：200903002525939888

窒素除去装置

Inventor： 中野 一郎 ,  桶谷 智
Applicant, Patent owner： 株式会社クボタ
Agent (1)： 森本 義弘
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1998099767
Publication number (International publication number)：1999290880
Application date： Apr. 13, 1998
Publication date： Oct. 26, 1999
Summary：

【要約】【課題】 硝化菌固定化担体を槽内に保持できるとともに良好に流動させることができ、かつ維持管理が容易な窒素除去装置を提供する。【解決手段】 処理水流出部を囲んで垂直方向に担体分離スクリーン15を設け、担体分離スクリーン15の近傍の上流側位置に仕切壁17を設け、仕切壁17より上流側の下部に散気装置14を設置することにより、仕切壁17より上流側に曝気処理領域18を形成し、下流側に、曝気処理領域18に上端開口17aで連通する下向流路19を形成する。担体分離スクリーン15の近傍に、制御装置22により駆動されて付着物を掻き取るスクレーパ20を設ける。スクリーン面に沿う下向流となるため担体13やし渣・ゴミ等が付着しにくく、万が一付着してもスクレーパ20で掻き取られるため、目詰まりは確実に防止される。

Claim (excerpt)：

硝化菌固定化担体を流動状態に保持する好気槽の内部に、処理水流出部を囲んで垂直方向の担体分離スクリーンを設けるとともに、前記担体分離スクリーンの近傍の上流側位置に、上端開口と下端開口とを有する仕切壁を設け、前記仕切壁より上流側に散気装置を設置することにより、仕切壁より上流側に曝気処理領域を形成し、仕切壁より下流側に、曝気処理領域に連通する下向流路を形成し、前記担体分離スクリーンに近接して、制御手段により連続的あるいは間欠的に駆動されて担体分離スクリーンへのし渣・ゴミ等の付着物を掻き取る掻取手段を設けたことを特徴とする窒素除去装置。

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (2)

• 廃水処理装置
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平7-275477   Applicant：日立プラント建設株式会社
• 深層曝気槽
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平7-208562   Applicant：株式会社荏原製作所