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J-GLOBAL ID:200903002526825940

真空処理装置

Inventor:
Applicant, Patent owner:
Agent (1): 徳丸 達雄
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):2003426156
Publication number (International publication number):2005183865
Application date: Dec. 24, 2003
Publication date: Jul. 07, 2005
Summary:
【課題】 APCバルブの動作不良による製品の品質及び歩留りの低下を防止するとともに、APCバルブへの副生成物の付着を早期に発見し、そのメンテナンス時期を的確に把握できる機能を備えた真空処理装置を提供する。 【解決手段】 本発明の真空処理装置1の真空チャンバ2には、真空度を監視するバラトロンゲージやピラニーゲージ等からなる真空計13が設けられ、真空計13が検出した真空度はAPC14に入力される。APC14は検出された真空度に基づき、第1APCバルブ11の開閉弁11aの開度を制御して真空チャンバ2内が所定の真空度になるよう調整する。さらに、排気管9の第1APCバルブ11の下流側に、新たに第2APCバルブ15とメインバルブ16が設けられている。また、第1APCバルブ11と第2APCバルブ15は、バタフライバルブ等からなり共にAPC14により切替え可能になっている。【選択図】 図1
Claim (excerpt):
真空計とAPCとAPCバルブを用いて真空チャンバ内の真空度を自動的に制御しながら、被処理体に所定の処理を施す真空処理装置において、前記真空チャンバと前記真空ポンプの間に直列に接続した複数のAPCバルブを設け、前記複数のAPCバルブをAPCにより切替え可能にしたことを特徴とする真空処理装置。
IPC (4):
H01L21/205 ,  B01J3/00 ,  B01J3/02 ,  C23C16/44
FI (4):
H01L21/205 ,  B01J3/00 J ,  B01J3/02 L ,  C23C16/44 J
F-Term (8):
4K030FA03 ,  4K030KA45 ,  5F045BB20 ,  5F045EB05 ,  5F045EG02 ,  5F045EG06 ,  5F045GB06 ,  5F045GB16
Patent cited by the Patent:
Cited by applicant (1)
  • 真空処理室の調圧方法
    Gazette classification:公開公報   Application number:特願平8-195455   Applicant:国際電気株式会社
Cited by examiner (6)
  • 真空処理装置
    Gazette classification:公開公報   Application number:特願平10-272099   Applicant:セイコーエプソン株式会社
  • 特開平4-349195
  • 排気系の圧力異常検出装置とその検出方法
    Gazette classification:公開公報   Application number:特願平10-000158   Applicant:日本鋼管株式会社
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