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J-GLOBAL ID：200903002531038310

熱放射膜、熱放射構造体、熱放射性部材、及び熱放射性機器

Inventor： 折橋 正樹 ,  小林 薫 ,  伊藤 芳規 ,  片岡 安弘 ,  後藤 孝 ,  宮崎 英敏
Applicant, Patent owner： 宮崎 英敏
Agent (1)： 逢坂 宏
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2003388980
Publication number (International publication number)：2005144985
Application date： Nov. 19, 2003
Publication date： Jun. 09, 2005
Summary：

【課題】 ノート型パーソナルコンピュータやフラットパネルディスプレイなどの薄型又は小型の電子機器に好適であって放熱を効率よく行なえる熱放射膜、熱放射構造体、熱放射性部材、及び熱放射性機器を提供すること。【解決手段】 電子機器の筐体(基材)20の表面上に、アルミニウム層21とSiO0.98層22a/SiO1.20層22b/SiO1.70層22cの4層の膜をコーティングして、光反射性のアルミニウム層21上に3層の積層膜からなる波長選択放射膜22を形成した熱放射構造体23、及びこの熱放射構造体23を外表面に設けた電子機器。【選択図】 図1

Claim (excerpt)：

8〜13μmの波長域の赤外線を放射できるように、互いに組成の異なる波長選択放射材料からなる複数の層が積層された構造を有する熱放射膜。

IPC (3)：

B32B7/02 ,  F25B23/00 ,  H05K7/20

FI (3)：

B32B7/02 105 ,  F25B23/00 Z ,  H05K7/20 B

F-Term (22)：

4F100AA12A ,  4F100AA20A ,  4F100AB01B ,  4F100AB10 ,  4F100AD00A ,  4F100AH00A ,  4F100AK14A ,  4F100AR00A ,  4F100AR00B ,  4F100AT00C ,  4F100BA02 ,  4F100BA03 ,  4F100BA07 ,  4F100BA11 ,  4F100BA25 ,  4F100GB41 ,  4F100JD12 ,  4F100JD12A ,  4F100JN06B ,  5E322AA11 ,  5E322EA11 ,  5E322FA04

Patent cited by the Patent：

Cited by applicant (2)

• 熱放射性表面処理材
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願2001-024099   Applicant：住友金属工業株式会社
• 特公平6-7508号公報(特許請求の範囲、第2欄2行目〜第3欄50行目、第10欄49行目〜第12欄14行目、第1図及び第2図)