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J-GLOBAL ID：200903002557873633

異物検査装置及び異物検査方法

Inventor： 野村 恵一郎
Applicant, Patent owner： 株式会社ニコン
Agent (1)： 田辺 恵基
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1996319837
Publication number (International publication number)：1998161298
Application date： Nov. 29, 1996
Publication date： Jun. 19, 1998
Summary：

【要約】【課題】本発明は、異物検査装置及び異物検査方法について、簡易な装置構成で、レチクルがウエハの露光工程に使用し得るか否かを容易にかつ的確に判断する。【解決手段】本発明は、異物検出手段により基板の異物の第1の異物座標データを検出すると共に、異なる時点で基板の異物の第2の異物座標データを検出し、位置ずれ量検出手段により第1の異物座標データから選定した少なくとも2個の第1の異物座標データと、第2の異物座標データとを対応づけ、当該対応する第1及び第2の異物座標データの位置ずれ量を算出し、補正手段により第1又は第2の異物座標データと位置ずれ量とから補正座標データを算出し、新規異物検出手段によつて補正座標データと、補正されない第1又は第2の異物座標データとを比較して新たな異物を検査することにより、従来の位置検出機構を必要とせずに位置ずれ量を算出して、第1又は第の異物座標データを的確に補正できる。

Claim (excerpt)：

所定の回路パターンが形成され、露光に使用されるレチクルやフオトマスク等の基板に異物の有無を検査する異物検査装置において、前記基板に光を照射し、該基板から得られる光を受光することにより前記異物の有無を検査すると共に、該検査により検出された前記異物の位置を検出する異物検出手段と、前記異物検出手段により検出された位置の第1の異物座標データのうち、少なくとも2個の第1の異物座標データを選定し、異なる時点で前記異物検出手段により検出された第2の異物座標データを前記選定された第1の異物座標データの各々について対応づけ、該対応づけられた第2の異物座標データと、前記選定された第1の異物座標データとの位置ずれ量を算出する位置ずれ量算出手段と、前記位置ずれ量算出手段から得られた前記位置ずれ量に基づいて前記第1又は第2の異物座標データのうち、どちらか一方を補正して補正座標データを算出する補正手段と、前記補正手段から得られる前記補正座標データと、前記補正手段によつて補正された前記第1又は第2の異物座標データとは異なる前記第1又は第2の異物座標データとを比較して、新たな異物を検出する新規異物検出手段とを具えることを特徴とする異物検査装置。

IPC (4)：

G03F 1/08 ,  G01N 21/88 ,  H01L 21/027 ,  H01L 21/66

FI (4)：

G03F 1/08 S ,  G01N 21/88 E ,  H01L 21/66 J ,  H01L 21/30 503 G