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J-GLOBAL ID：200903002579531353

炭素スス分子及び有機金属錯体の励起状態を用いたガスまたは液体の反応制御方法及び装置

Inventor： 磯田 悟 ,  神谷 俊行 ,  花里 善夫 ,  池田 彰
Applicant, Patent owner： 三菱電機株式会社
Agent (1)： 高田 守
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1993097886
Publication number (International publication number)：1994064903
Application date： Apr. 23, 1993
Publication date： Mar. 08, 1994
Summary：

【要約】【目的】 励起状態の炭素スス分子、金属ポルフィリン錯体及び金属フタロシアニン錯体の高い反応性を用いたガス及び液体の反応制御方法・装置及びこの中で特にこれら分子による活性酸素の製造方法・装置、並びに有害物質の分解方法・装置を提供する。【構成】 光照射等の物理化学的な方法により励起状態とした炭素スス分子、金属ポルフィリン錯体、金属フタロシアニン錯体と酸素含有ガスを接触させることにより活性酸素を生成させる。さらに有害物質を含むガス及び液体を接触させ、上述の活性酸素または励起状態にあるこれら分子の直接の反応によって有害物質が分解する。

Claim (excerpt)：

励起状態にある炭素スス分子、金属ポルフィリン錯体及び金属フタロシアニン錯体のいずれか一種以上とガスまたは液体を反応させることを特徴としたガスまたは液体の反応制御方法。

IPC (5)：

C01B 13/02 ,  B01D 53/32 ZAB ,  B01D 53/34 ,  C02F 1/30 ,  C02F 1/72

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (4)

• 特開昭53-129193
  
• 特開昭59-004436
  
• 特開昭60-187322
  
• 特開昭52-134867