Pat

J-GLOBAL ID：200903002599199959

感光性樹脂組成物および感光性樹脂レジスト

Inventor： 越村 克夫 ,  佐藤 穂積 ,  廣瀬 浩一
Applicant, Patent owner： 日本合成ゴム株式会社
Agent (1)： 福沢 俊明
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1994104335
Publication number (International publication number)：1995128856
Application date： Apr. 20, 1994
Publication date： May. 19, 1995
Summary：

【要約】【目的】 金属表面に対する膠着性と残膜率、現像残り等の感光性との特性バランスに優れ、且つアルカリ現像性あるいは水現像性を有する感光性樹脂組成物および感光性樹脂レジストを提供する。【構成】 感光性樹脂組成物は、(1)?@モノエチレン性不飽和カルボン酸エステル、?Aカルボキシル基含有モノエチレン性不飽和単量体および?B水酸基を有するモノエチレン性不飽和基含有カルボン酸エステルを必須成分とする共重合体に光重合性基を導入した光重合性共重合体、(2)光重合性単量体、並びに(3)光重合開始剤を含有する。また感光性樹脂レジストは、(1)前記?@および?Aを必須成分とする共重合体に光重合性基を導入することにより得られる光重合性共重合体、(2)光重合性単量体、並びに(3)光重合開始剤を含有する。

Claim (excerpt)：

(1)?@モノエチレン性不飽和カルボン酸エステル30〜80モル%、?Aカルボキシル基含有モノエチレン性不飽和単量体10〜50モル%、?B水酸基を有するモノエチレン性不飽和基含有カルボン酸エステル5〜30モル%、および?C他の共重合可能なモノエチレン性不飽和単量体0〜10モル%からなる共重合体(但し、?@+?A+?B+?C=100モル%)に、その含有する官能基を介して、光重合可能なエチレン性不飽和基を有する反応性化合物を反応させて光重合性基を導入することにより得られる光重合性共重合体、(2)光重合可能なエチレン性不飽和単量体、並びに(3)光重合開始剤を含有することを特徴とする感光性樹脂組成物。

IPC (7)：

G03F 7/038 501 ,  C08F 2/48 MDK ,  C08F299/00 MRN ,  G03F 7/027 502 ,  G03F 7/027 511 ,  G03F 7/028 ,  H01L 21/027