露光条件測定方法及びそれを用いた露光装置

Inventor：
Applicant, Patent owner：
Agent (1)：高梨幸雄
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1998294669
Publication number (International publication number)：2000114158
Application date： Oct. 01, 1998
Publication date： Apr. 21, 2000
Summary：

【要約】【課題】半導体デバイス製造の際のリソグラフィー工程において露光量を適切に設定して高集積度のパターンが容易に得られる露光条件測定方法及びそれを用いた露光装置を得ること。【解決手段】レチクル上のパターンを互いに異なる露光条件で感光基板上に転写して複数の感光パターンを形成する工程と、前記複数の感光パターンからの輝度情報を光電変換素子上に投影する投影工程と、前記投影工程によって得られる画像信号から前記各感光パターンの周波数成分を算出する工程と、前記各感光パターンの周波数成分に基づいて前記パターンを前記感光基板に転写する際の最適露光条件を決定する工程とを有する露光条件測定方法において、前記感光パターンは1方向に周期性を有するパターンで、該感光パターンの計測方向と該光電変換素子の配列方向の1方向とが平行でないまたは直交しない角度に設定すること。

Claim (excerpt)：

レチクル上のパターンを互いに異なる露光条件で感光基板上に転写して複数の感光パターンを形成する工程と、前記複数の感光パターンからの輝度情報を光電変換素子上に投影する投影工程と、前記投影工程によって得られる画像信号から前記各感光パターンの周波数成分を算出する工程と、前記各感光パターンの周波数成分に基づいて前記パターンを前記感光基板に転写する際の最適露光条件を決定する工程とを有する露光条件測定方法において、前記感光パターンは1方向に周期性を有するパターンで、該感光パターンの計測方向と該光電変換素子の配列方向の1方向とが平行でないまたは直交しない角度に設定することを特徴とする露光条件測定方法。

IPC (2)：

H01L 21/027 , G03F 7/20 521

FI (3)：

H01L 21/30 516 C , G03F 7/20 521 , H01L 21/30 526 B

F-Term (18)：

5F046BA03 , 5F046CC01 , 5F046CC05 , 5F046DA02 , 5F046DA13 , 5F046DA14 , 5F046DB01 , 5F046DB05 , 5F046DC01 , 5F046DC02 , 5F046DC10 , 5F046DD03 , 5F046EA03 , 5F046EA09 , 5F046EB01 , 5F046FA10 , 5F046FA16 , 5F046FC04

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