Pat
J-GLOBAL ID：200903002618848157
位置合わせ方法及び位置合わせ装置
Inventor：
Applicant, Patent owner：
Agent (1)：
高橋 敬四郎 (外2名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1995275974
Publication number (International publication number)：1997120940
Application date： Oct. 24, 1995
Publication date： May. 06, 1997
Summary：
【要約】 (修正有)【課題】 ギャップ変動に対して敏感で、かつギャップ長の変動方向を認識できる位置合わせ技術を提供する。【解決手段】 フレネルゾーンプレートで構成されたアライメント用のウエハマーク11が形成されたウエハ10面上に、フレネルゾーンプレートで構成されたアライメント用のマスクマーク13が形成されたマスク12を、ある間隔をおいて配置する工程と、各マークに、ウエハ面に対して斜方から、照明光20を照射する工程と、各マークからの回折光によって空中に形成された各マークの集光像21,23を、ウエハ面に対して斜めの観測光軸を有する観測光学系の受光面に結像させる工程と、ウエハマークの集光像の受光面上の合焦位置とマスクマークの集光像の受光面上の合焦位置との相対距離を基に、ウエハ面とマスク面との間の距離を変化させる工程とを有する。
Claim (excerpt)：
フレネルゾーンプレートで構成されたアライメント用のウエハマークが形成されたウエハ面を有するウエハのウエハ面上に、フレネルゾーンプレートで構成されたアライメント用のマスクマークが形成されたマスク面を有するマスクを、ある間隔をおいて配置する工程と、前記ウエハマーク及びマスクマークに、前記ウエハ面に対して斜方から、フレネル回折を起こす照明光を照射する工程と、前記ウエハマーク及びマスクマークからの回折光によって空中に形成されたウエハマーク及びマスクマークの集光像を、前記ウエハ面に対して斜めの観測光軸を有する観測光学系の受光面に結像させる工程と、前記ウエハマークの集光像の前記受光面上の合焦位置と前記マスクマークの集光像の前記受光面上の合焦位置との相対距離を基に、前記ウエハ面とマスク面との間の距離を変化させる工程とを有する位置合わせ方法。
IPC (3)：
H01L 21/027
, G03F 9/00
, H01L 21/68
H01L 21/30 531 J
, G03F 9/00 H
, H01L 21/68 F
, H01L 21/30 510
Cited by examiner (11)
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