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J-GLOBAL ID：200903002622505973

薄膜磁気ヘッド及びその製造方法

Inventor： 川邉 隆 ,  岡田 智弘 ,  今川 尊雄 ,  芦田 栄次 ,  府山 盛明
Applicant, Patent owner： 株式会社日立製作所
Agent (1)： 小川 勝男
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1992247571
Publication number (International publication number)：1994103535
Application date： Sep. 17, 1992
Publication date： Apr. 15, 1994
Summary：

【要約】【目的】優れた信頼性と高いパターン精度を兼ね備えた電極を有する薄膜磁気ヘッドと、その製造方法を提供する。【構成】MRヘッドの電極膜を、Wから成る低抵抗層と、Nbから成る密着層で構成する。また、この多層膜を、フッ素系ガスプラズマを用いた反応性エッチング法でエッチングし、パターン作製する。【効果】密着力が大きい電極膜が得られる。また、MRセンサ部分にダメージを与えずに、高精度なエッチング電極パターンが作製できる。

Claim (excerpt)：

磁気抵抗効果膜と、前記磁気抵抗効果膜に電流を供給する電極膜とを含み、磁気媒体上に記録された情報を再生する薄膜磁気ヘッドにおいて、前記電極膜が、フッ素ラジカルもしくはフッ素イオンを含むプラズマを用いた反応性エッチング法でパターン作製できる材料から成ることを特徴とする薄膜磁気ヘッド。