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J-GLOBAL ID：200903002636462495
真空処理装置の監視方法
Inventor：
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Applicant, Patent owner：
,
Agent (1)：
井桁 貞一
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1991026530
Publication number (International publication number)：1993009759
Application date： Feb. 20, 1991
Publication date： Jan. 19, 1993
Summary：
【要約】【目的】 処理チャンバ10とガス供給系20と真空排気系30を有して所定の処理を行う真空処理装置に関し、使用中に装置異常の発見を可能させる監視方法の提供を目的とする。【構成】 真空排気系30の真空ポンプ31部分におけるガス温度のモニターにより、真空ポンプ30の始動から処理の繰り返しに渡る該モニターの経時的温度変化を真空処理装置の使用時にB〜Fのような評価データとして求め、その評価データを利用して真空処理装置の状態を監視する、または、真空処理装置が正常に動作する状態の時に前記モニターの経時的温度変化を基準データAとして予め求めておき、基準データAの利用も加えて上記の監視を行うように構成する。監視内容は、装置正常、正常処理開始可能時点、真空ポンプ31異常、ガス供給系20異常、外気侵入リーク、真空排気管32詰まり、ガス放出リークによる環境汚染、である。
Claim (excerpt)：
処理チャンバ(10)とガス供給系(20)と真空排気系(30)を有して所定の処理を行う真空処理装置において、該真空排気系(30)の真空ポンプ(31)部分におけるガス温度のモニターにより、該真空ポンプ(31)の始動から処理の繰り返しに渡る該モニターの経時的温度変化を該真空処理装置の使用時に評価データ(B〜F)として求め、該評価データを利用して該真空処理装置の状態を監視することを特徴とする真空処理装置の監視方法。
IPC (10)：
C23F 4/00
, C23C 14/54
, C23C 16/44
, C30B 25/14
, C30B 25/16
, G05B 1/03
, H01L 21/302
, H01L 21/31
, H01L 21/66
, H01L 21/205
