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J-GLOBAL ID：200903002648179276
フォトマスクの静電気による破壊を防止する方法
Inventor：
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Applicant, Patent owner：
Agent (1)：
清水 善▲廣▼ (外2名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2000389468
Publication number (International publication number)：2002189286
Application date： Dec. 21, 2000
Publication date： Jul. 05, 2002
Summary：
【要約】【課題】 フォトマスクの静電気による破壊を簡易にかつ確実に防止する方法を提供すること。【解決手段】 ガラス基板の片面にクロム膜と酸化クロム膜をこの順に積層した後、所定の遮光膜パターンを形成したフォトマスクの該遮光膜パターンを有する面の表面に透明導電性膜を形成し、相互に離間した遮光膜同士を該透明導電性膜により接合することを特徴とする。
Claim (excerpt)：
ガラス基板の片面にクロム膜と酸化クロム膜をこの順に積層した後、所定の遮光膜パターンを形成したフォトマスクの該遮光膜パターンを有する面の表面に透明導電性膜を形成し、相互に離間した遮光膜同士を該透明導電性膜により接合することを特徴とするフォトマスクの静電気による破壊を防止する方法。
F-Term (1)：
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