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J-GLOBAL ID：200903002649511720

水素吸蔵合金の製造方法

Inventor： 佐野 達二 ,  賀屋 雅詔 ,  岩村 努 ,  長 勤
Applicant, Patent owner： ティーディーケイ株式会社
Agent (1)： 奥山 雄毅
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2000343004
Publication number (International publication number)：2002146572
Application date： Nov. 10, 2000
Publication date： May. 22, 2002
Summary：

【要約】【課題】 水素吸蔵合金の表面近傍にある低水素吸蔵量の異相を除去して、高水素吸蔵量の水素吸蔵合金の製造方法を提供する。【解決手段】 高温からの急冷工程で生成する水素吸蔵合金表面の異相を除去する手段を有することを特徴とする体心立方型水素吸蔵合金の製造方法であって、水素吸蔵合金表面の異相を酸又はヒドラジン類、ヒドラジン類のアルカリ溶液で除去する手段を有する体心立方型水素吸蔵合金の製造方法とする。これにより、水素吸蔵合金表面近傍に生成する水素吸蔵特性の低い異相を除去して、水素吸蔵量を大きくすることができる。

Claim (excerpt)：

高温からの急冷工程で生成する水素吸蔵合金表面の異相を除去する手段を有することを特徴とする体心立方型水素吸蔵合金の製造方法。

IPC (4)：

C23G 1/02 ,  C22C 1/00 ,  C22C 23/06 ,  H01M 4/38

FI (4)：

C23G 1/02 ,  C22C 1/00 N ,  C22C 23/06 ,  H01M 4/38 A

F-Term (19)：

4K053PA09 ,  4K053QA07 ,  4K053RA05 ,  4K053RA15 ,  4K053RA16 ,  4K053RA19 ,  4K053SA06 ,  4K053TA24 ,  4K053ZA10 ,  5H050AA08 ,  5H050BA14 ,  5H050CB16 ,  5H050FA17 ,  5H050FA19 ,  5H050GA02 ,  5H050GA12 ,  5H050GA27 ,  5H050HA10 ,  5H050HA13