Pat
J-GLOBAL ID:200903002653152165
二酸化チタン微粒子およびその製造方法ならびに可視光活性型光触媒の製造方法
Inventor:
,
,
,
,
Applicant, Patent owner:
Agent (1):
木下 茂
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):2003301137
Publication number (International publication number):2005047786
Application date: Aug. 26, 2003
Publication date: Feb. 24, 2005
Summary:
【課題】 可視光照射に対して従来品よりも高い光触媒活性を示すとともに、その光触媒活性が、安定性、持続性に優れている二酸化チタン微粒子およびその製造方法ならびに可視光活性型光触媒の製造方法を提供する。【解決手段】 二酸化チタン原料微粒子を、N含有ガスを含む還元性ガス雰囲気下、500°C以上620°C以下で熱処理することにより、二酸化チタンに、C、H、Sから選ばれた少なくとも1種類およびNがドープされている二酸化チタン微粒子であって、該二酸化チタン微粒子0.2gを10cm四方に均一層とした試料を容積1lのガスバッグ内に入れ、当初イソプロパノールガス濃度を1500ppm±150ppmとし、前記試料に、紫外線が遮光された蛍光灯光を、波長420nmにおける強度0.5mW/cm2で1時間照射後、生成したアセトンガス濃度が500ppm以上となるものを得る。【選択図】 なし
Claim (excerpt):
二酸化チタンに、C、H、N、Sから選ばれた少なくとも2種類がドープされていることを特徴とする二酸化チタン微粒子。
IPC (8):
C01G23/047
, B01D53/86
, B01J27/24
, B01J31/38
, B01J35/02
, B01J35/08
, B01J35/10
, B01J37/08
FI (9):
C01G23/047
, B01J27/24 M
, B01J31/38 M
, B01J35/02 H
, B01J35/02 J
, B01J35/08 Z
, B01J35/10 301J
, B01J37/08
, B01D53/36 J
F-Term (63):
4D048AA06
, 4D048AA19
, 4D048AA20
, 4D048AA21
, 4D048AA22
, 4D048AB01
, 4D048AB03
, 4D048BA07X
, 4D048BA41X
, 4D048BA45X
, 4D048BA46X
, 4D048BB01
, 4D048BB17
, 4D048EA01
, 4G047CA02
, 4G047CB08
, 4G047CC03
, 4G047CD04
, 4G047CD07
, 4G069AA08
, 4G069BA04A
, 4G069BA04B
, 4G069BA04C
, 4G069BA08A
, 4G069BA08B
, 4G069BA21A
, 4G069BA21B
, 4G069BA21C
, 4G069BA48A
, 4G069BB01C
, 4G069BD01C
, 4G069BD02C
, 4G069BD06A
, 4G069BD06B
, 4G069BD06C
, 4G069BD08A
, 4G069CA01
, 4G069CA02
, 4G069CA03
, 4G069CA05
, 4G069CA07
, 4G069CA10
, 4G069CA11
, 4G069CA13
, 4G069CA17
, 4G069CD10
, 4G069DA05
, 4G069EA04X
, 4G069EA04Y
, 4G069EA08
, 4G069EB18X
, 4G069EB19
, 4G069EC03X
, 4G069EC04X
, 4G069EC05X
, 4G069EC22X
, 4G069EC22Y
, 4G069EC27
, 4G069FA02
, 4G069FB01
, 4G069FC06
, 4G069FC07
, 4G069FC08
Patent cited by the Patent:
Cited by applicant (2)
Cited by examiner (8)
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含硫黄金属酸化物
Gazette classification:公開公報
Application number:特願2003-143980
Applicant:株式会社トクヤマ
-
特開昭58-091037
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親水性材料
Gazette classification:公開公報
Application number:特願2000-017634
Applicant:株式会社豊田中央研究所
-
光触媒体
Gazette classification:公開公報
Application number:特願2000-018551
Applicant:株式会社豊田中央研究所
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光触媒物質および光触媒体
Gazette classification:公開公報
Application number:特願2000-019310
Applicant:株式会社豊田中央研究所
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光触媒体及びその製造方法
Gazette classification:公開公報
Application number:特願2002-074369
Applicant:独立行政法人産業技術総合研究所
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可視光活性型光触媒粒子
Gazette classification:公開公報
Application number:特願2003-081940
Applicant:東芝セラミックス株式会社
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二酸化チタン微粒子およびその製造方法
Gazette classification:公開公報
Application number:特願2003-301138
Applicant:東芝セラミックス株式会社
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