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J-GLOBAL ID：200903002678211450

水素分離膜の製造方法

Inventor： 小渕 彰 ,  伊藤 仁志 ,  谷口 浩之
Applicant, Patent owner： 三菱化工機株式会社
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1999332626
Publication number (International publication number)：2001145825
Application date： Nov. 24, 1999
Publication date： May. 29, 2001
Summary：

【要約】【課題】できるだけ低価格で、高透過性の水素分離膜を容易に製造できる水素分離膜の製造方法を提供する。【解決手段】水素含有ガスから水素を透過分離するPd系水素分離膜の製造方法において、形状形成基体の表面にPd若しくはPdを主体とした合金の薄膜を形成させたのち、形状形成基体を除去してPd系水素分離膜を製造する水素分離膜の製造方法。

Claim (excerpt)：

水素含有ガスから水素を透過分離するPd系水素分離膜の製造方法において、形状形成基体の表面にPd若しくはPdを主体とした合金の薄膜を形成させたのち、形状形成基体を除去してPd系水素分離膜を製造する水素分離膜の製造方法。

IPC (3)：

B01D 71/02 500 ,  B01D 53/22 ,  C01B 3/56

FI (3)：

B01D 71/02 500 ,  B01D 53/22 ,  C01B 3/56 Z

F-Term (15)：

4D006GA41 ,  4D006HA21 ,  4D006HA41 ,  4D006JA02A ,  4D006MA02 ,  4D006MA03 ,  4D006MC02X ,  4D006NA31 ,  4D006NA50 ,  4D006NA62 ,  4D006PB66 ,  4G040FA02 ,  4G040FB09 ,  4G040FC01 ,  4G040FE01