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J-GLOBAL ID：200903002689358738

基板上にパターン化されたポリイミド被膜を形成させる方法

Inventor： 新妻 陽
Applicant, Patent owner： デュポン株式会社
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1993345600
Publication number (International publication number)：1995181689
Application date： Dec. 22, 1993
Publication date： Jul. 21, 1995
Summary：

【要約】【目的】 基板上にパターン化されたポリイミド被膜を形成させる方法を提供する。【構成】 ポリイミド前駆体を感光性基を有する化合物で変成して得られる光架橋性重合体組成物を基板上に適用して被膜を形成させ、像様露光し、現像し、硬化した露光部分の被膜を加熱してポリイミド樹脂被膜に転化させるパターン化されたポリイミド樹脂被膜を形成させる方法において、現像工程において現像液として良溶媒単独、あるいは良溶媒と貧溶媒とを組み合わせた混合溶媒に2-メチル-2-プロパノールを追加混合したものを使用することを特徴とするものである。

Claim (excerpt)：

芳香族テトラカルボン酸またはそのモノもしくはジ酸無水物と芳香族ジアミンとから誘導されるポリイミド前駆体を感光性基を有する化合物で変成して得られる光架橋性重合体組成物を基板上に適用して被膜を形成させ、この被膜を像様に露光し、未露光部分を現像液で溶解して除去し、残留した露光部分の被膜を加熱してポリイミド樹脂に転化させることにより基板上にパターン化されたポリイミド樹脂被膜を形成させる方法において、現像液として2-メチル-2-プロパノールを10重量%以上80重量%以下の量で含有する混合溶媒を使用することを特徴とする上記の方法。

IPC (6)：

G03F 7/32 ,  G03F 7/32 501 ,  G03F 7/027 514 ,  G03F 7/038 504 ,  H01L 21/027 ,  H01L 21/312