Pat
J-GLOBAL ID:200903002695044648
デバイス製造方法、方位決定方法およびリソグラフィ装置
Inventor:
,
Applicant, Patent owner:
Agent (4):
浅村 皓
, 浅村 肇
, 山本 貴和
, 岩本 行夫
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):2004273444
Publication number (International publication number):2005101607
Application date: Sep. 21, 2004
Publication date: Apr. 14, 2005
Summary:
【課題】リソグラフィ装置を使うデバイス製造では、基板上に先に投影したパターンと正確に整列して次のパターンを投影する必要がある。従って、パターニング手段に関する基板の方位を正確に決めるべきであり、このためこの発明は、パターニング手段に関する基板の方位、特に回転を迅速に且つ基板上に特別なマークを要さずに決める方法を提供することを目的とする。【解決手段】基板(2)上にあり且つ対応する形態を有する少なくとも二つの構造体(S1、S2)、例えば先に投影したパターンを、リソグラフィ装置に関連する測定座標系(u-v軸)に関して既知の位置で結像する。この少なくとも二つの構造体(S1、S2)の間の距離ベクトル(Tx)を決める。この距離ベクトル(Tx)から、この測定座標系に関する基板に関連するパターン座標系(x-y軸)の回転角(Rz)を計算する。【選択図】図4A
Claim (excerpt):
少なくとも部分的に放射線感応材料の層で覆われた基板(2)を用意する工程、
照明システムを使って放射線の投影ビームを用意する工程、
前記投影ビームの断面にパターンを付けるためにパターニング手段を使う工程、
前記基板(2)の方位を決める工程、
前記基板(2)とパターニング手段を前記基板(2)の方位に従って整列する工程、および
前記放射線のパターン化したビームを前記放射線感応材料の層の目標部分上に投影する工程、を含むデバイス製造方法に於いて、前記基板(2)の方位を決める工程が基板(2)の回転を決める工程を含み、前記工程が、
測定座標系で、対応する形態を有し且つパターン座標系に関する相対位置が分っている少なくとも二つの構造体(S1、S2)の間に距離ベクトル(Tx)を決める工程、
前記距離ベクトル(Tx)を前記測定座標系の第1軸(12)および第2軸(14)に沿う第1距離および第2距離(Tu、Tv)に分解する工程、および
前記第1および第2距離(Tu、Tv)を使って前記測定座標系に関するこのパターン座標系の回転を計算する工程、を含むことを特徴とするデバイス製造方法。
IPC (4):
H01L21/027
, G01B11/26
, G01B21/22
, G03F7/20
FI (4):
H01L21/30 525W
, G01B11/26 H
, G01B21/22
, G03F7/20 521
F-Term (23):
2F065AA03
, 2F065AA07
, 2F065AA20
, 2F065AA39
, 2F065BB02
, 2F065CC18
, 2F065FF01
, 2F065FF04
, 2F065JJ03
, 2F065JJ26
, 2F065QQ13
, 2F065QQ41
, 2F069AA03
, 2F069AA83
, 2F069BB40
, 2F069CC06
, 2F069GG04
, 2F069GG07
, 2F069NN13
, 5F046BA03
, 5F046DA05
, 5F046DB04
, 5F046FC04
Patent cited by the Patent: