Pat
J-GLOBAL ID:200903002695704761
流路部材及び流路装置
Inventor:
Applicant, Patent owner:
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):2004048100
Publication number (International publication number):2005238347
Application date: Feb. 24, 2004
Publication date: Sep. 08, 2005
Summary:
【課題】流路部材に、迅速かつ精密に流量を調整することのできる流量調整機能を付与する。【解決手段】絶縁基板1と、該絶縁基板1に内蔵された流路11と、該流路11の形状を変化させて流量を増減するアクチュエータ3と、を具備してなることを特徴とする流路部材。【選択図】図1
Claim (excerpt):
絶縁基板と、該絶縁基板に内蔵された流路と、圧電素子の電歪作用によって該流路の形状を変化させて流量を増減するアクチュエータと、を具備してなることを特徴とする流路部材。
IPC (1):
FI (1):
Patent cited by the Patent:
Cited by applicant (2)
-
微小化学反応装置
Gazette classification:公開公報
Application number:特願2001-088170
Applicant:独立行政法人産業技術総合研究所, 桐生昭吾, 村川正宏, 樋口哲也
-
マイクロシステムにおける流れの制御方法
Gazette classification:公開公報
Application number:特願2000-362915
Applicant:科学技術振興事業団
Cited by examiner (5)
-
ガス流量制御装置
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平3-271383
Applicant:キヤノン株式会社
-
微小化学反応装置
Gazette classification:公開公報
Application number:特願2001-088170
Applicant:独立行政法人産業技術総合研究所, 桐生昭吾, 村川正宏, 樋口哲也
-
圧電アクチュエータ
Gazette classification:公開公報
Application number:特願2001-148722
Applicant:太平洋セメント株式会社
-
流量制御装置
Gazette classification:公開公報
Application number:特願2000-287870
Applicant:日本アエラ株式会社
-
分離型マイクロバルブ
Gazette classification:公開公報
Application number:特願2001-028219
Applicant:オリンパス光学工業株式会社
Show all
Return to Previous Page