表面構造が改良されたスパッタターゲット及びその製造方法

Inventor： , , ,
Applicant, Patent owner：
Agent (2)：笹島富二雄 , 西山春之
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2004293308
Publication number (International publication number)：2005113267
Application date： Oct. 06, 2004
Publication date： Apr. 28, 2005
Summary：

【課題】非スパッタ領域の、再蒸着したターゲットコート材を捕捉する能力を向上させ、スパッタの再蒸着の影響を軽減する。【解決手段】スパッタの再蒸着の影響は、スパッタターゲット1の非スパッタ領域3,4に巨視的な凹凸を形成することにより軽減される。この巨視的な凹凸の形成は、非スパッタ領域3,4に巨視的なトラフパターンを形成することによる。この巨視的な凹凸の形成に加え、ショット、ビード又はグリットのブラスチング法によりこのトラフパターンに微視的な凹凸を付加する。【選択図】図1

Claim 1：

スパッタ領域と、巨視的なトラフパターンが形成された非スパッタ領域と、が設けられたスパッタターゲット。

IPC (2)：

C23C14/34 , G11B5/851

FI (2)：

C23C14/34 B , G11B5/851

F-Term (4)：

4K029BD11 , 4K029DC12 , 5D112FA04 , 5D112FB02

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (12)

特開昭62-007856
マグネトロンスパッタリング用Tiターゲット
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平8-014016 Applicant：三菱マテリアル株式会社
特開平4-173965

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