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J-GLOBAL ID：200903002714470351

ポジ型化学増幅系感光性樹脂組成物およびレジスト像の製造法

Inventor： 木村 忠広 ,  加藤 幸治 ,  橋本 政弘 ,  鯉渕 滋 ,  橋本 通晰
Applicant, Patent owner： 日立化成工業株式会社
Agent (1)： 若林 邦彦
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1997191548
Publication number (International publication number)：1999038626
Application date： Jul. 16, 1997
Publication date： Feb. 12, 1999
Summary：

【要約】 (修正有)【課題】 高感度で、高解像度で、現像時の膜減り、感度、異物の増加に対して経時の保存安定性が良好であるポジ型化学増幅系感光性樹脂組成物及びレジスト像の製造法を提供する。【解決手段】 (A)アルカリ水溶液可溶性樹脂、(B)活性化学線照射により酸を生じる化合物、(C)酸触媒反応によりアルカリ水溶液に対し溶解度を増加する酸分解性基を有する物質、(D)溶剤及び(E)一般式(I)(ただし、式中、R1及びR2は、炭素数が1〜16のアルキル基、シクロアルキル基又は芳香族基であり、R1とR2は同一でも異なっていてもよく、R1とR2を介して複素環構造を形成していてもよい)で表される炭酸エステル化合物を含有してなるポジ型感光性樹脂組成物並びにこの感光性樹脂組成物を基板上に塗布、乾燥した後、露光、加熱、現像するレジスト像の製造法。

Claim (excerpt)：

(A)アルカリ水溶液可溶性樹脂、(B)活性化学線照射により酸を生じる化合物、(C)酸触媒反応によりアルカリ水溶液に対し溶解度を増加する酸分解性基を有する物質、(D)溶剤及び(E)一般式(I)【化1】(ただし、式中、R1及びR2は、炭素数が1〜16のアルキル基、シクロアルキル基又は芳香族基であり、R1とR2は同一でも異なっていてもよく、R1とR2を介して複素環構造を形成していてもよい)で表される炭酸エステル化合物を含有してなるポジ型感光性樹脂組成物。

IPC (3)：

G03F 7/039 601 ,  G03F 7/004 501 ,  H01L 21/027

FI (3)：

G03F 7/039 601 ,  G03F 7/004 501 ,  H01L 21/30 502 R