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J-GLOBAL ID：200903002719873055
真空把持装置
Inventor：
Applicant, Patent owner：
Agent (1)：
恩田 博宣
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1994222007
Publication number (International publication number)：1996085086
Application date： Sep. 16, 1994
Publication date： Apr. 02, 1996
Summary：
【要約】【目的】 複雑な真空圧力制御機構を備えることなく、空吸いに起因する真空圧力の低下を抑止することができ、また、ワークの形状に左右されることなく良好な吸着性能を示す真空把持装置を提供すること。【構成】 真空把持装置VD1は、シリンダ11と、シリンダ11の上端に連結された第1空気通路12と、シリンダ11の下端に連結された第2空気通路13と、球状閉塞部材としてのボール14を備える本体10と、本体10の下面に装着される吸着パッド20を備えている。また、第2連結部16の近傍には、第1補助空気通路18が形成されている。この第1補助空気通路18は、吸着初期段階における吸着パッド20の下側からシリンダ11へかけての空気流路を容易に形成するための通路であり、ボール14が移動する状態を待つことなく空気通路が形成される。
Claim (excerpt)：
シリンダと、そのシリンダが有する径よりも小さな径を有し、前記シリンダの一端と第1連結部を介して連結されている第1空気通路と、前記シリンダ内部において遊動可能に備えられ、前記第1空気通路を閉塞する球状閉塞部材と、前記シリンダが有する径よりも小さな径を有し、前記シリンダの他端と連結され、前記球状閉塞部材にて閉塞可能な第2空気通路と、前記シリンダの他端と前記第2空気通路との第2連結部に形成され、前記球状閉塞部材にて閉塞不能な第1補助空気通路とを備えたことを特徴とする真空把持装置。
Patent cited by the Patent：
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