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J-GLOBAL ID：200903002727267288

難燃性感光性樹脂組成物及びこれを用いた耐熱性保護皮膜の製造法

Inventor： 中野 昭夫 ,  吉田 哲也 ,  土屋 勝則
Applicant, Patent owner： 日立化成工業株式会社
Agent (1)： 若林 邦彦
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1996200196
Publication number (International publication number)：1998048821
Application date： Jul. 30, 1996
Publication date： Feb. 20, 1998
Summary：

【要約】 (修正有)【課題】 はんだ耐熱性、耐めっき性等に優れ、微細パターン形成可能な感光性樹脂組成物及び耐熱性保護皮膜の製造法を提供する。【解決手段】 (A)臭素化ビスフェノールA型エポキシ樹脂、(B)ペンタメチレンカーボネートとヘキサメチレンカーボネートを繰返し単位とするコポリカーボネートジオール、イソホロンジイソシアネート及びヒドロキシエチルアクリレート又はヒドロキシエチルメタクリレートの反応物、(C)下記構造式(I)で表される光重合性化合物、(D)2-アミノ-5-メルカプト-1,3,4-チアジアゾール、(E)活性光により遊離ラジカルを生成する光重合開始剤並びに(F)三酸化アンチモンを含有してなる難燃性感光性樹脂組成物並びに基板上に前記難燃性感光性樹脂組成物の皮膜を形成した後、像的露光し、次いで3-メチル-3-メトキシブチルアセテートを含有する水溶液を用いて、現像を行う。

Claim (excerpt)：

(A)エポキシ当量2,000〜3,000、臭素含有率50〜60重量%の臭素化ビスフェノールA型エポキシ樹脂、(B)ペンタメチレンカーボネートとヘキサメチレンカーボネートを5:5の比率で繰返し単位とするコポリカーボネートジオール、イソホロンジイソシアネート及びヒドロキシエチルアクリレート又はヒドロキシエチルメタクリレートの反応物、(C)下記構造式(I)【化1】で表される光重合性化合物、(D)2-アミノ-5-メルカプト-1,3,4-チアジアゾール、(E)活性光により遊離ラジカルを生成する光重合開始剤並びに(F)三酸化アンチモンを含有してなる難燃性感光性樹脂組成物。

IPC (7)：

G03F 7/027 502 ,  G03F 7/027 513 ,  G03F 7/004 501 ,  G03F 7/032 501 ,  G03F 7/32 ,  H05K 3/18 ,  H05K 3/28

FI (7)：

G03F 7/027 502 ,  G03F 7/027 513 ,  G03F 7/004 501 ,  G03F 7/032 501 ,  G03F 7/32 ,  H05K 3/18 D ,  H05K 3/28 D