排水処理装置

Inventor： , ,
Applicant, Patent owner：
Agent (1)：水野豊広
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2001249927
Publication number (International publication number)：2003053331
Application date： Aug. 21, 2001
Publication date： Feb. 25, 2003
Summary：

【要約】【課題】排水中の有害成分を高水準で捕捉して、排水の清浄化処理を行いながら処理能力の更新・増強を行うことが可能になる等の性能を有して、小規模事業所の狭い空間及び大規模事業所の排水の排出起源となる試験室・研究室等にも容易に装備可能な低い装置にすることが可能な排水処理装置及びそれの利用及び発展させた別の排水処理装置を提供する。【解決手段】排水処理装置は、排水中の有害成分を捕捉するのに有効な数の固定層を下降流に接触する固定層及び上昇流に接触する固定層の組み合わせにして、それに排水を連続して流して清浄化処理を行えるようにして、しかも、固定層が取り替え及び追加等を可能にして配設されているものである。別の排水処理装置は、そのような構成の複数の固定層からなる排水処理系路が、設けれられて、所望の状態で固定層群に設定可能にされている。さらに、別の排水処理装置は、凝集成分を分離装置により分離した排水を排水処理装置若しくは先の別の排水処理装置により清浄化処理する。

Claim (excerpt)：

連結・離脱が可能な流出入機構を有する固定層を備えてなる複数の固定層が、固定層間を繋ぐ流路によって下降流に接触する固定層と上昇流に接触する固定層との組み合わせであって、固定層の離脱・設置を可能にして配設されて、それに排水を流して清浄化処理すること、を特徴とする排水処理装置。

IPC (9)：

C02F 1/28 , C02F 1/00 , C02F 1/42 , C02F 3/06 , C02F 9/00 501 , C02F 9/00 502 , C02F 9/00 , C02F 9/00 503 , C02F 9/00 504

FI (10)：

C02F 1/28 F , C02F 1/00 J , C02F 1/42 D , C02F 3/06 , C02F 9/00 501 Z , C02F 9/00 502 H , C02F 9/00 502 J , C02F 9/00 502 P , C02F 9/00 503 C , C02F 9/00 504 A

F-Term (37)：

4D003AA01 , 4D003BA02 , 4D003CA10 , 4D003EA25 , 4D003FA06 , 4D024AA04 , 4D024AB06 , 4D024AB11 , 4D024BA02 , 4D024BA06 , 4D024BA07 , 4D024BA18 , 4D024BC01 , 4D024BC02 , 4D024CA01 , 4D024CA04 , 4D024CA05 , 4D024DA01 , 4D024DA02 , 4D024DA03 , 4D024DA04 , 4D024DB14 , 4D024DB19 , 4D024DB21 , 4D025AA09 , 4D025AB02 , 4D025AB38 , 4D025BA08 , 4D025BA13 , 4D025BB09 , 4D025BB11 , 4D025BB18 , 4D025BB19 , 4D025CA02 , 4D025CA10 , 4D025DA02 , 4D025DA03

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (1)

活性炭吸着装置
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平6-122231 Applicant：三菱重工業株式会社

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