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J-GLOBAL ID：200903002737014329

プリント配線板の製造方法

Inventor： 日 向 淳 悦 ,  前 田 誠 二
Applicant, Patent owner： 日本合成化学工業株式会社
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1992350443
Publication number (International publication number)：1994177510
Application date： Dec. 02, 1992
Publication date： Jun. 24, 1994
Summary：

【要約】【目的】 本発明は小径スルーホールを有するプリント配線板の製造に適した感光剤組成物及びそれを用いたフォトレジストフイルムを使用してプリント配線板を製造する。【構成】 水膨潤性ポリビニルアルコール系樹脂フイルム層/感光剤組成物層からなる積層フイルムの感光剤組成物層を、スルーホールをもつ金属被覆絶縁基板の両面に、圧着し該層をスルーホールエッジ部に埋め込ませた後、両面からパターンマスクを介して露光を行って、感光剤組成物の層を光硬化させるプリント配線板の製法において、感光剤組成物として、(a)カルボキシル基含有ポリマー(b)エチレン性不飽和化合物(c)N,N’-テトラアルキル-4,4’-ジアミノベンゾフェノン系化合物又はチオキサントン系化合物の少なくとも一種(d)N-アリール-α-アミノ酸系化合物を含んでなる組成物を用いることを特徴とする。

Claim (excerpt)：

水膨潤性ポリビニルアルコール系樹脂フイルム層/感光剤組成物層からなる積層フイルムの感光剤組成物層を、スルーホールをもつ金属被覆絶縁基板の両面に圧着し、該層をスルーホールエッジ部に埋め込ませた後、両面からパターンマスクを介して露光を行って、感光剤組成物の層を光硬化させるプリント配線板の製法において、感光剤組成物として、(a)カルボキシル基含有ポリマー(b)エチレン性不飽和化合物(c)N,N’-テトラアルキル-4,4’-ジアミノベンゾフェノン系化合物又はチオキサントン系化合物の少なくとも一種(d)N-アリール-α-アミノ酸系化合物を含んでなり、かつ(c)の使用量が(a)と(b)の総量100重量部に対し0.01〜0.5重量部、(d)の使用量が(a)と(b)の総量100重量部に対し0.1〜1重量部である組成物を用いることを特徴とするプリント配線板の製造方法。

IPC (5)：

H05K 3/06 ,  G03F 7/004 512 ,  G03F 7/028 ,  G03F 7/038 ,  H05K 3/42

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (3)

• 特開平3-287168
  
• 特開昭63-303359
  
• 特開昭60-189289