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J-GLOBAL ID：200903002743658939

植物への二酸化炭素の施用による育成方法

Inventor： 桜井 四郎
Applicant, Patent owner： 桜井 四郎 ,  桜井 国男
Agent (2)： 横井 健至 ,  横井 知理
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2005179734
Publication number (International publication number)：2006345829
Application date： Jun. 20, 2005
Publication date： Dec. 28, 2006
Summary：

【課題】 光合成を期待するC3植物への炭酸ガスへの施用時間を最も効果のある時間帯とし、植物の生育及びその糖度高めて増収を図る方法を提供する。【解決手段】 C3植物の葉層群洛中への光合成用のCO2ガスの施用に当たり、夜間にCO2ガスを施用する植物の育成方法であり、CO2ガスの施用において、ポリジメチルシロキサン製のチューブ8を用いるものとし、そのチューブ8を植物葉層群洛の中に配設し、これに工業用炭酸ガスボンベ3のガス圧を圧力調整器1で減圧し、そのCO2ガスをこのポリジメチルシロキサン製のチューブ8により夜間送気し、このチューブ8の膜透過により植物葉層群洛の近辺の空気中へCO2ガスを施用する。【選択図】 図1

Claim (excerpt)：

C3植物あるいはC4植物やCAM植物などの植物葉層群洛への光合成用のCO2ガスの施用に当たり、夜間にCO2ガスを施用することを特徴とする植物の育成方法。

IPC (1)：

A01G 7/02

FI (1)：

A01G7/02

F-Term (3)：

2B022DA11 ,  2B022DA12 ,  2B022DA15

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (2)

• 高二酸化炭素選択分離膜を用いた植物への二酸化炭素施肥
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願2000-154250   Applicant：経済産業省産業技術総合研究所長, 日本ヘルス工業株式会社, 蔵岡孝治, 矢澤哲夫
• 特開昭61-280217
  

Article cited by the Patent：

Cited by examiner (1)

• 炭素代謝