レーザビームの形状制御装置

Inventor： , ,
Applicant, Patent owner：
Agent (3)：堀田実 , 仲宗根康晴 , 野村俊博
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2007012249
Publication number (International publication number)：2008181918
Application date： Jan. 23, 2007
Publication date： Aug. 07, 2008
Summary：

【課題】短軸方向のビーム強度を、均一化された形状とガウス分布形状のいずれにも制御できる光学系を有するレーザビームの形状制御装置を提供する。【解決手段】レーザ光源3と、該レーザ光源からのレーザビームを、その進行方向と垂直な断面が横長形状となるレーザビームにする光学系5と、を備える。該光学系は、上記横長形状の縦方向ビーム形状を制御する短軸光学系5aと、上記横長形状の横方向ビーム形状を制御する長軸光学系5bと、を有する。短軸光学系は、レーザビームを短軸方向において複数のビームに分割する短軸用レンズアレイ11a,11bと、該短軸用レンズアレイの下流に設けられ、複数のビームを重ね合わせる短軸用コンデンサレンズ13と、を有する。短軸用レンズアレイは光学系5に対し着脱可能になっている。【選択図】図2

Claim 1：

基板の表面に形成された半導体膜へ照射するレーザビームの形状制御装置であって、レーザ光源と、該レーザ光源からのレーザビームを、その進行方向と垂直な断面が横長形状となるレーザビームにする光学系と、を備え、該光学系は、前記横長形状の縦方向ビーム形状を制御する短軸光学系と、前記横長形状の横方向ビーム形状を制御する長軸光学系と、を有し、前記短軸光学系は、レーザビームを短軸方向において複数のビームに分割する短軸用レンズアレイと、該短軸用レンズアレイの下流に設けられ、前記複数のビームを重ね合わせる短軸用コンデンサレンズと、を有し、前記短軸用レンズアレイは該光学系に対し着脱可能になっている、ことを特徴とするレーザビームの形状制御装置。

IPC (1)：

H01L 21/268

FI (1)：

H01L21/268 J

Patent cited by the Patent：

Cited by applicant (4)

ビームホモジナイザ
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平8-314040 Applicant：住友重機械工業株式会社
半導体装置の作製方法
Gazette classification：公開公報 Application number：特願2001-127014 Applicant：株式会社半導体エネルギー研究所
結晶成長方法及びレーザアニール装置
Gazette classification：公開公報 Application number：特願2002-010478 Applicant：住友重機械工業株式会社

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