Pat

J-GLOBAL ID：200903002794627841

水素製造装置の制御方法及びその装置

Inventor： 遠藤 俊安 ,  岸 基 ,  山田 修一 ,  伊藤 洋光 ,  森田 泰正 ,  酒井 孝夫 ,  小野崎 正樹
Applicant, Patent owner： 三菱石油株式会社 ,  三菱石油エンジニアリング株式会社 ,  千代田化工建設株式会社
Agent (1)： 赤野 牧子 (外1名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1994013195
Publication number (International publication number)：1995206401
Application date： Jan. 11, 1994
Publication date： Aug. 08, 1995
Summary：

【要約】【目的】 水素製造装置において水素純度を所定値に維持する制御方法及びその装置の提供。【構成】 原料炭化水素類をスチーム改質して水素を製造する水素製造装置において、(1)製造する水素純度を予め設定し、当該所定純度の水素所要量に応じて水素製造量を設定し、(2)前記設定の水素製造量に基づき改質炉への原料流量を制御すると同時に、(3)前記で制御された原料流量により見込まれる見込水素製造量を算出し、(4)前記見込水素製造量に見合うスチーム/カーボン比となるように改質炉へのスチーム量を制御し、且つ、(5)前記見込水素製造量に見合うと共に、水素純度を所定の設定値に維持するように改質炉出口温度を制御することを特徴とする水素製造装置の制御方法。

Claim (excerpt)：

原料炭化水素類をスチーム改質して水素を製造する水素製造装置において、(1)製造する水素純度を予め設定し、当該所定純度の水素所要量に応じて水素製造量を設定し、(2)前記設定の水素製造量に基づき改質炉への原料流量を制御すると同時に、(3)前記で制御された原料流量により見込まれる見込水素製造量を算出し、(4)前記見込水素製造量に見合うスチーム/カーボン比となるように改質炉へのスチーム量を制御し、且つ、(5)前記見込水素製造量に見合うと共に、水素純度を所定の設定値に維持するように改質炉出口温度を制御することを特徴とする水素製造装置の制御方法。

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (2)

• 特開昭63-055102
  
• 特開昭60-090802