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J-GLOBAL ID:200903002811607345

保護膜形成用組成物

Inventor:
Applicant, Patent owner:
Agent (1): 大井 正彦
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):1995258547
Publication number (International publication number):1997100338
Application date: Oct. 05, 1995
Publication date: Apr. 15, 1997
Summary:
【要約】【目的】 表面が平坦でない基体であっても、当該基体上に、表面の平坦性の高い保護膜を形成することができる保護膜形成用組成物を提供すること。【構成】 (A)下記一般式(1)で表される構成単位を少なくとも20重量%含有してなり、かつ、ポリスチレン換算重量平均分子量が2000〜10000である重合体または共重合体と、(B)多価カルボン酸無水物および多価カルボン酸から選択された少なくとも1種の化合物と、(C)有機溶剤とを含有してなることを特徴とする。【化1】〔式中、Rは、水素原子または炭素原子数1〜5のアルキル基を示し、mは、1〜8の整数を示す。〕
Claim (excerpt):
(A)下記一般式(1)で表される構成単位を少なくとも20重量%含有してなり、かつ、ポリスチレン換算重量平均分子量が2000〜10000である重合体または共重合体と、(B)多価カルボン酸無水物および多価カルボン酸から選択された少なくとも1種の化合物と、(C)有機溶剤とを含有してなることを特徴とする保護膜形成用組成物。【化1】〔式中、Rは、水素原子または炭素原子数1〜5のアルキル基を示し、mは、1〜8の整数を示す。〕
IPC (4):
C08G 59/20 NHW ,  C08G 59/42 NHY ,  C09D163/00 PJK ,  G02F 1/1333 505
FI (4):
C08G 59/20 NHW ,  C08G 59/42 NHY ,  C09D163/00 PJK ,  G02F 1/1333 505
Patent cited by the Patent:
Cited by applicant (4)
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Cited by examiner (4)
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