ポジ型レジスト組成物

Inventor： , ,
Applicant, Patent owner：
Agent (5)：小栗昌平 , 本多弘徳 , 市川利光 , 高松猛 , 濱田百合子
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2002339432
Publication number (International publication number)：2004170871
Application date： Nov. 22, 2002
Publication date： Jun. 17, 2004
Summary：

【課題】160nm以下、具体的にはF2エキシマレーザー光(157nm)の光源使用時に十分な透過性を示し、且つ高感度で、溶解コントラストに優れ、更に耐ドライエッチング性が良好なポジ型レジスト組成物を提供すること。【解決手段】特定の繰り返し単位を組み合わせた、酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解度が増大する樹脂と、活性光線または放射線の作用により酸を発生する化合物とを含有することを特徴とするポジ型レジスト組成物。【選択図】なし

Claim (excerpt)：

(A1)一般式(I)で示される繰り返し単位と一般式(II)及び一般式(IIId)から選択される少なくとも1つの繰り返し単位とをそれぞれ少なくとも1つずつ有する、酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解度が増大する樹脂、および (B)活性光線または放射線の作用により酸を発生する化合物、を含有することを特徴とするポジ型レジスト組成物。

IPC (5)：

G03F7/039 , C08F16/12 , C08F32/04 , C08F32/08 , H01L21/027

FI (5)：

G03F7/039 601 , C08F16/12 , C08F32/04 , C08F32/08 , H01L21/30 502R

F-Term (88)：

2H025AA01 , 2H025AA02 , 2H025AA04 , 2H025AA09 , 2H025AD03 , 2H025BE00 , 2H025BE10 , 2H025BG00 , 2H025CB08 , 2H025CB14 , 2H025CB41 , 2H025FA10 , 2H025FA17 , 4J100AC22T , 4J100AC24T , 4J100AC25T , 4J100AC26T , 4J100AC27T , 4J100AC31T , 4J100AC34T , 4J100AE01Q , 4J100AE01S , 4J100AE02S , 4J100AE04S , 4J100AE06S , 4J100AE09Q , 4J100AE09S , 4J100AE35Q , 4J100AE35S , 4J100AL01T , 4J100AL03T , 4J100AL08T , 4J100AL24T , 4J100AL26T , 4J100AL34T , 4J100AL39T , 4J100AL49T , 4J100AM14T , 4J100AM17T , 4J100AM19T , 4J100AP01T , 4J100AR03P , 4J100AR05P , 4J100AR09P , 4J100AR09R , 4J100AR09T , 4J100AR11P , 4J100AR11R , 4J100AR11T , 4J100BA02Q , 4J100BA02S , 4J100BA03Q , 4J100BA20Q , 4J100BA20R , 4J100BA20T , 4J100BA22Q , 4J100BA29T , 4J100BA31T , 4J100BA40P , 4J100BA40R , 4J100BA40S , 4J100BA40T , 4J100BB01P , 4J100BB01S , 4J100BB03P , 4J100BB03S , 4J100BB07P , 4J100BB07R , 4J100BB07S , 4J100BB17S , 4J100BB18Q , 4J100BB18R , 4J100BB18S , 4J100BB18T , 4J100BC04Q , 4J100BC04S , 4J100BC04T , 4J100BC07Q , 4J100BC07R , 4J100BC07S , 4J100BC07T , 4J100BC08Q , 4J100BC12Q , 4J100BC53Q , 4J100CA03 , 4J100CA04 , 4J100CA05 , 4J100JA38

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