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J-GLOBAL ID：200903002820312552

アモルファス状金属酸化物の薄膜材料

Inventor： 国武 豊喜 ,  一ノ瀬 泉 ,  藤川 茂紀 ,  黄 建国
Applicant, Patent owner： 理化学研究所
Agent (1)： 特許業務法人特許事務所サイクス (外3名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2001392088
Publication number (International publication number)：2002338211
Application date： Dec. 25, 2001
Publication date： Nov. 27, 2002
Summary：

【要約】【課題】 低密度のアモルファス状金属酸化物薄膜を厚み精度よく且つ確実に形成し得る製造方法を提供すること。【解決手段】 有機成分が分子的に分散した有機/金属酸化物複合薄膜から酸素プラズマ処理により有機成分を取り除くことによりアモルファス状金属酸化物薄膜を製造する。

Claim (excerpt)：

有機成分が分子的に分散した有機/金属酸化物複合薄膜の有機成分に対応する部分が除去された構造を有するアモルファス状金属酸化物の薄膜材料。

IPC (4)：

C01B 13/14 ,  C01G 23/07 ,  C01G 25/00 ,  C01G 25/02

FI (4)：

C01B 13/14 Z ,  C01G 23/07 ,  C01G 25/00 ,  C01G 25/02

F-Term (22)：

4G042DA01 ,  4G042DA02 ,  4G042DB16 ,  4G042DC03 ,  4G042DD02 ,  4G042DD11 ,  4G042DE09 ,  4G042DE12 ,  4G047CA01 ,  4G047CA08 ,  4G047CB04 ,  4G047CB06 ,  4G047CC03 ,  4G047CD02 ,  4G048AA02 ,  4G048AA03 ,  4G048AB01 ,  4G048AB02 ,  4G048AC08 ,  4G048AD02 ,  4G048AE05 ,  4G048AE08

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (4)

• 反射防止材料及びそれを用いた偏光フィルム
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平9-364126   Applicant：株式会社巴川製紙所
• 無機多孔質膜の製造方法
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平10-172585   Applicant：株式会社クボタ
• 金属酸化物、その薄膜及びこれを製造する方法
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平11-143206   Applicant：コニカ株式会社
• 特開平1-212203
  

Article cited by the Patent：

Cited by examiner (1)

• Preparation of Nanoporous Titania Films by Syrface Sol-Gel Process Accompanied by Low-Temperature Ox