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J-GLOBAL ID：200903002821742135

パターン検査装置

Inventor： 藤森 義彦 ,  末吉 正史
Applicant, Patent owner： 株式会社ニコン
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1991223904
Publication number (International publication number)：1993060533
Application date： Sep. 04, 1991
Publication date： Mar. 09, 1993
Summary：

【要約】【目的】 被検査物上のパターンを充分な分解能を以て観察することと、設計データに基づく正確なパターン等の情報を重畳して表示することとを両立できるようにする。【構成】 設計データに基づいて被検査物2上に形成されたパターンの拡大像を形成する拡大光学系3と、その設計データに基づいて形成された参照用パターンを表示する表示装置14と、その被検査物2上のパターンの拡大像とその参照用パターンの像とを重ね合わせるビームスプリッター13と、その重ね合わせられた2つの像を観察するための観察系15とを有する。

Claim (excerpt)：

設計データに基づいて被検査物上に形成された実パターンの拡大像を生成する拡大光学系と、前記設計データに基づいて形成された参照用パターンを表示する画像表示手段と、前記実パターンの拡大像と前記参照用パターンの像とを重ね合わせる合成用光学系と、前記重ね合わせられた2つの像を観察するための観察用光学系とを有し、前記参照用パターンの像を用いて前記実パターンを検査するようにした事を特徴とするパターン検査装置。

IPC (6)：

G01B 11/24 ,  G01N 21/88 ,  G03F 1/08 ,  G06F 15/62 405 ,  G06F 15/70 455 ,  H01L 21/66