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J-GLOBAL ID：200903002823003526

ポジ型化学増幅系感光性樹脂組成物、レジストパターンの製造法及び電子装置の製造法

Inventor： 粕谷 圭 ,  加藤 幸治 ,  橋本 政弘 ,  新井 唯 ,  逆水 登志夫
Applicant, Patent owner： 日立化成工業株式会社 ,  株式会社日立製作所
Agent (1)： 若林 邦彦
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1999239111
Publication number (International publication number)：2001066775
Application date： Aug. 26, 1999
Publication date： Mar. 16, 2001
Summary：

【要約】【課題】 感度、解像度及びパターン形状が優れるポジ型化学増幅系感光性樹脂組成物、解像度、パターン形状、作業性及び生産性が優れるレジストパターンの製造法並びに解像度、パターン形状、作業性及び生産性が優れる電子装置の製造法を提供する。【解決手段】 (a)アルカリ水溶液可溶性樹脂、(b)少なくとも2種類のポリフェノ-ル化合物、(c)活性化学線照射により酸を生じる化合物及び(d)側鎖に酸触媒反応によりアルカリ水溶液に対する溶解性が増加される酸分解性基を有する化合物を含有してなるポジ型化学増幅系感光性樹脂組成物、このポジ型化学増幅系感光性樹脂組成物の塗膜に活性化学線を照射し、次いで現像することを特徴とするレジストパターンの製造法並びにこのポジ型化学増幅系感光性樹脂組成物を電子回路の回路形成面又は保護膜形成面に塗布乾燥し、得られた塗膜に活性化学線を照射し、次いで現像することを特徴とする電子装置の製造法。

Claim (excerpt)：

(a)アルカリ水溶液可溶性樹脂、(b)少なくとも2種類のポリフェノ-ル化合物、(c)活性化学線照射により酸を生じる化合物及び(d)側鎖に酸触媒反応によりアルカリ水溶液に対する溶解性が増加される酸分解性基を有する化合物を含有してなるポジ型化学増幅系感光性樹脂組成物。

IPC (4)：

G03F 7/039 601 ,  G03F 7/004 501 ,  G03F 7/38 511 ,  H01L 21/027

FI (4)：

G03F 7/039 601 ,  G03F 7/004 501 ,  G03F 7/38 511 ,  H01L 21/30 502 R

F-Term (28)：

2H025AA01 ,  2H025AA02 ,  2H025AA03 ,  2H025AB16 ,  2H025AC04 ,  2H025AC05 ,  2H025AC06 ,  2H025AC07 ,  2H025AC08 ,  2H025AD03 ,  2H025BE00 ,  2H025BG00 ,  2H025CB29 ,  2H025CB41 ,  2H025CB52 ,  2H025CB56 ,  2H025CC20 ,  2H096AA25 ,  2H096BA10 ,  2H096BA11 ,  2H096BA16 ,  2H096BA20 ,  2H096EA03 ,  2H096EA04 ,  2H096EA05 ,  2H096EA06 ,  2H096EA07 ,  2H096EA08