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J-GLOBAL ID:200903002828709176
マイクロリレー
Inventor:
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Applicant, Patent owner:
Agent (2):
西川 惠清
, 森 厚夫
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):2007168216
Publication number (International publication number):2009009756
Application date: Jun. 26, 2007
Publication date: Jan. 15, 2009
Summary:
【課題】製造が容易なマイクロリレーを提供する。【解決手段】固定接点41が設けられた基板1と、可動接点42が設けられたアーマチュア部23を有し閉磁路を構成する磁性体ブロック2と、基板1に設けられて可動接点42を固定接点41に離接させるように磁性体ブロック2を励磁するコイル6とを備える。磁性体ブロック2が構成する閉磁路内には、コイル6への通電が停止された後に可動接点42と固定接点41とが接触した状態を維持する磁界を生じさせる永久磁石3が設けられている。永久磁石3を、磁性体ブロック2上への磁性体の堆積によって形成した。【選択図】図1
Claim 1:
一方の面に固定接点が設けられた基板と、
磁性体からなり可動接点が設けられ弾性復帰した状態では可動接点が固定接点から離間するように基板に対して保持され可動接点を固定接点に接触導通させるように弾性変形可能なアーマチュアと、
磁性体からなり基板に保持されたヨークと、
可動接点と固定接点との離接を切り替えるようにアーマチュアを駆動する磁界を発生させるようにヨークを励磁するコイルと、
ヨーク上への磁性体の堆積によって形成されアーマチュアに対し可動接点を固定接点に接触させる方向に作用する向きの磁界を発生させるように着磁された永久磁石とを備えることを特徴とするマイクロリレー。
IPC (3):
H01H 50/36
, H01H 50/44
, H01H 50/02
FI (3):
H01H50/36 N
, H01H50/44 Z
, H01H50/02 L
Patent cited by the Patent:
Cited by applicant (1)
Cited by examiner (5)
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特許第6778045号
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磁気センサ及びその製造方法
Gazette classification:公開公報
Application number:特願2004-252525
Applicant:ヤマハ株式会社
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リードリレー
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平8-255463
Applicant:株式会社アドバンテスト
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マイクロリレー
Gazette classification:公開公報
Application number:特願2005-018986
Applicant:松下電工株式会社
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特公昭38-004526
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