低比表面積シリカゲル及びその製造方法

Inventor： ,
Applicant, Patent owner：
Agent (1)：塩澤寿夫 (外1名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1994025279
Publication number (International publication number)：1995237917
Application date： Feb. 23, 1994
Publication date： Sep. 12, 1995
Summary：

【要約】【目的】醸造物等の濾過剤として有用な、吸着性能と濾過性とに優れたシリカゲル及びその製造方法の提供。【構成】 BET比表面積が50〜300m2 /gであり、かつメジアン細孔径が8〜200Åであるシリカゲル。好ましくは、細孔容積が0.1〜2.5cc/gであり、かつ平均2次粒子径が1〜200μmである。このシリカゲルは、シリカヒドロゲルをケイフッ化マグネシウム等のフッ素化合物で処理することにより得られる。

Claim (excerpt)：

BET比表面積が50〜300m2 /gであり、かつメジアン細孔径が8〜200Åであることを特徴とするシリカゲル。

IPC (4)：

C01B 33/16 , B01J 20/10 , C12G 3/02 119 , C12H 1/16

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (6)

クロマト分離用充填剤
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平4-123834 Applicant：富士シリシア化学株式会社
特開平1-230421
シリカ
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平4-289432 Applicant：ジョセフ・クロスフィールド・アンド・サンズ・リミテッド

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