Pat

J-GLOBAL ID：200903002864718904

光学薄膜の製造方法

Inventor： 川俣 健
Applicant, Patent owner： オリンパス光学工業株式会社
Agent (1)： 奈良 武
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1994067931
Publication number (International publication number)：1995248415
Application date： Mar. 10, 1994
Publication date： Sep. 26, 1995
Summary：

【要約】【目的】 生産性、耐久性、光学特性に優れた光学薄膜を低コストで得る。【構成】 金属ターゲットを用いて、不活性ガスおよび酸素を含むガスの少なくとも2種類のガスを導入しながら、反応性DCマグネットロンスパッタリング法により高屈折率層を形成し、Siターゲットを用いて、不活性ガスおよび酸素を含むガスの少なくとも2種類のガスを導入しながら、反応性RFマグネトロンスパツタリング法により低屈折率層を形成して、光学薄膜を製造する。

Claim (excerpt)：

金属ターゲットを用いて、不活性ガスおよび酸素を含むガスの少なくとも2種類のガスを導入しながら、反応性DCマグネトロンスパッタリング法により高屈折率層を形成し、Siターゲットを用いて、不活性ガスおよび酸素を含むガスの少なくとも2種類のガスを導入しながら、反応性RFマグネトロンスパッタリング法により低屈折率層を形成することを特徴とする光学薄膜の製造方法。

IPC (4)：

G02B 5/28 ,  C23C 14/08 ,  C23C 14/34 ,  G02B 1/11