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J-GLOBAL ID：200903002888465020

短連鎖う蝕菌培養用培地

Inventor： 亀井 明仁 ,  河村 達朗
Applicant, Patent owner： 松下電器産業株式会社
Agent (1)： 山本 秀策
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2001067878
Publication number (International publication number)：2002262857
Application date： Mar. 09, 2001
Publication date： Sep. 17, 2002
Summary：

【要約】【課題】 連鎖う蝕菌の短い連鎖数の菌鎖が主となる標品を作製するための培地を提供する。【解決手段】 短連鎖う蝕菌培養用培地であって、基礎培地および緩衝剤を含み、この緩衝剤がこの培地に付加されて、培養時のpH変化が、pH6.0〜8.0の間となるようにこの培地に緩衝能を与える培地。

Claim (excerpt)：

短連鎖う蝕菌培養用培地であって、基礎培地および緩衝剤を含み、該緩衝剤は、培養時のpH変化が、pH6.0〜8.0の間となるように該培地に緩衝能を与える量で、該培地に付加される、短連鎖う蝕菌培養用培地。

IPC (3)：

C12N 1/00 ,  C12N 1/20 ,  C12R 1:46

FI (4)：

C12N 1/00 F ,  C12N 1/20 A ,  C12N 1/20 ,  C12R 1:46

F-Term (5)：

4B065AA49X ,  4B065AC20 ,  4B065BB31 ,  4B065BB38 ,  4B065BC02