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J-GLOBAL ID：200903002907799326

金属修飾アパタイト含有膜の形成方法、これに用いられるコーティング液、および金属修飾アパタイト含有膜で被覆された部位を有する電子機器

Inventor：
安曽 徳康

About 安曽 徳康

, 
若村 正人

About 若村 正人


Applicant, Patent owner：
富士通株式会社

About 富士通株式会社


Agent (1)： 吉田 稔 (外2名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2002146110
Publication number (International publication number)：2003334883
Application date： May. 21, 2002
Publication date： Nov. 25, 2003
Summary：
【要約】【課題】 金属修飾アパタイトの有する抗菌作用または防汚作用などを充分に発揮しつつ透明性に優れている金属修飾アパタイト含有膜の形成方法、これに用いられるコーティング液、および、そのような金属修飾アパタイト含有膜で被覆された部位を有する電子機器を提供すること。【解決手段】 金属修飾アパタイト含有膜の形成方法において、粉末状の金属修飾アパタイトと無機コーティング液材とを含んで金属修飾アパタイトの含有率が0.01〜5wt%である金属修飾アパタイト含有コーティング液を、基材に対して塗布することとする。
Claim (excerpt)：
粉末状の金属修飾アパタイトと無機コーティング液材とを含んで前記金属修飾アパタイトの含有率が0.01〜5wt%である金属修飾アパタイト含有コーティング液を、基材に対して塗布することを特徴とする、金属修飾アパタイト含有膜の形成方法。
IPC (4)：
B32B 9/00 ,  B01J 35/02 ,  C09D 1/00 ,  C09D 7/12
FI (4)：
B32B 9/00 A ,  B01J 35/02 J ,  C09D 1/00 ,  C09D 7/12
F-Term (48)：
4F100AA01B ,  4F100AA17 ,  4F100AB01B ,  4F100AC10B ,  4F100AT00A ,  4F100BA02 ,  4F100CB00B ,  4F100DE01B ,  4F100EH462 ,  4F100EJ64B ,  4F100GB41 ,  4F100JB20 ,  4F100JC00 ,  4F100JL06 ,  4F100YY00B ,  4G069AA03 ,  4G069AA08 ,  4G069BA14A ,  4G069BA14B ,  4G069BA48A ,  4G069BB14A ,  4G069BB14B ,  4G069BC09A ,  4G069BC09B ,  4G069BC18A ,  4G069BC22A ,  4G069BC35A ,  4G069BC50A ,  4G069BC50B ,  4G069BC60A ,  4G069BC62A ,  4G069BC66A ,  4G069CA01 ,  4G069CA11 ,  4G069EA07 ,  4G069EA11 ,  4G069FA03 ,  4G069FB15 ,  4G069FB23 ,  4G069FB24 ,  4G069FC08 ,  4J038AA001 ,  4J038HA416 ,  4J038HA441 ,  4J038HA451 ,  4J038KA04 ,  4J038KA15 ,  4J038NA05
Patent cited by the Patent：
Cited by examiner (2)

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