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J-GLOBAL ID：200903002929615601

プロセス制御方法および装置

Inventor： 井上 春樹 ,  舩橋 誠壽 ,  八尋 正和 ,  佐藤 良幸
Applicant, Patent owner： 株式会社日立製作所 ,  日立エンジニアリング株式会社
Agent (1)： 高田 幸彦
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1992015925
Publication number (International publication number)：1993066804
Application date： Mar. 25, 1988
Publication date： Mar. 19, 1993
Summary：

【要約】【目的】多目的,多出力のプロセス制御において、最適な制御操作量の組合わせを高速に決定する方式を提供する。【構成】制御装置1に、複数の操作量の組合わせによる複数の制御指令案を生成する制御指令案生成手段(38,39)、前記制御指令案の操作量に応じ演算された所定時間後の各制御目的の予測値をファジー評価した評価値と制御目的毎の重み係数の積和によって複数の制御目的を同時に達成する程度を示す満足度を演算する満足度演算手段(40)、該満足度が最大になる操作量の組合わせを制御指令とする操作指令決定手段(41)を有する予測ファジー制御装置(5)を具備する。【効果】複数の制御効果器に出力する操作量の組合わせを、最適かつ高速に決定できるので、高精度,リアルタイムなプロセス制御を実現できる効果がある。

Claim (excerpt)：

複数の制御目的に応じて複数の制御効果器の操作量を出力するプロセス制御方法において、複数の操作量の組合わせによる複数の制御指令案を生成し、該各制御指令案を実行すると仮定して各制御目的の所定時の予測値をファジー評価し、これら評価された予測評価値に基づいて複数の制御目的を同時に達成する程度を示す満足度を演算し、該満足度が最適の基準を満たす操作量の組合わせを制御指令として決定するようにしたことを特徴とするプロセス制御方法。

IPC (5)：

G05B 13/02 ,  G05B 13/04 ,  G06F 9/44 330 ,  G06F 15/20 ,  E21F 1/00