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J-GLOBAL ID:200903002933706620
高分子薄膜、高分子薄膜の製造方法、およびバイオチップ
Inventor:
,
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Applicant, Patent owner:
,
Agent (1):
石井 陽一
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):2002011707
Publication number (International publication number):2003212974
Application date: Jan. 21, 2002
Publication date: Jul. 30, 2003
Summary:
【要約】【課題】 生体適合性を付与するための組織適合剤、免疫、生体反応抑制剤の固定化基質として有用な高分子薄膜と、その製造方法、および水洗い工程等においてプロ-ブ物質、サンプル物質の損失が少なく、これらのプローブ、サンプルを有効に活用することのできるバイオチップを提供する。【解決手段】 下記構造式(I)で表される原料を蒸発させ、加熱してモノマーとした後、所定の真空度の蒸着室に導入して基材上に堆積、重合させ高分子薄膜を得る構成の高分子薄膜の製造方法、これにより得られた高分子薄膜、およびバイオチップとした。【化11】〔上記式(I)において、R1 ,R2 は、-CH2NH2 基、またはHを表し、少なくともR1 ,R2 のいずれかは-CH2NH2 基である。〕
Claim (excerpt):
下記構造式(I)で表される原料を蒸発させ、加熱してモノマーとした後、所定の真空度の蒸着室に導入して基材上に堆積、重合させ高分子薄膜を得る高分子薄膜の製造方法。【化1】〔上記式(I)において、R1 ,R2 は、-CH2NH2 基、またはHを表し、少なくともR1 ,R2 のいずれかは-CH2NH2 基である。〕
IPC (5):
C08G 61/02
, C12M 1/00
, C12N 15/09
, G01N 33/53
, G01N 37/00 102
FI (5):
C08G 61/02
, C12M 1/00 A
, G01N 33/53 M
, G01N 37/00 102
, C12N 15/00 F
F-Term (16):
4B024AA11
, 4B024BA80
, 4B024CA04
, 4B024HA08
, 4B029AA07
, 4B029AA21
, 4B029AA23
, 4B029BB20
, 4B029CC03
, 4B029CC08
, 4B029FA15
, 4J032CA06
, 4J032CB01
, 4J032CB04
, 4J032CC01
, 4J032CE01
Patent cited by the Patent:
Cited by examiner (6)
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