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J-GLOBAL ID:200903002934130233

電子ビーム溶接方法および装置

Inventor:
Applicant, Patent owner:
Agent (1): 田渕 経雄
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):2000111582
Publication number (International publication number):2001293580
Application date: Apr. 13, 2000
Publication date: Oct. 23, 2001
Summary:
【要約】【課題】 溶接欠陥を抑制できる電子ビーム溶接方法とその装置の提供。【解決手段】 単一の電子ビームを送り方向に第1のビーム1と第1のビームより後方の第2のビーム2とに時間分割し第1のビーム1で溶接を行い第2のビーム2で溶接欠陥の抑制を行う電子ビーム溶接方法であって、第1、第2のビーム1、2の切替え中に、被溶接物9の、第1のビーム照射位置と第2のビーム照射位置との間の部分11に、入熱を与えるようにした電子ビーム溶接方法とその装置。
Claim (excerpt):
単一の電子ビームを送り方向に第1のビームと該第1のビームより後方の第2のビームに時間分割し第1のビームで溶接を行い第2のビームで溶接欠陥の抑制を行う電子ビーム溶接方法であって、第1のビームから第2のビームへの切替えと第2のビームから第1のビームへの切替えとの少なくとも一方の切替え中に、被溶接物の、第1のビームの照射位置と第2のビームの照射位置との間に入熱を与える電子ビーム溶接方法。
F-Term (3):
4E066AB06 ,  4E066BA06 ,  4E066BB05
Patent cited by the Patent:
Cited by applicant (4)
  • 特開平4-022586
  • 特開昭55-136586
  • 特開昭56-036393
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Cited by examiner (2)
  • 特開平4-022586
  • 特開昭55-136586

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