Pat

J-GLOBAL ID：200903002961524715

プラズマ処理装置内の電流測定値から変位電流を除去するための方法及び装置

Inventor： ゲックナー、マシュー、ジェイ ,  バンワゴナー、チャールズ、イー
Applicant, Patent owner： バリアン・セミコンダクター・エクイップメント・アソシエイツ・インコーポレイテッド
Agent (1)： 竹内 澄夫 (外1名)
Gazette classification：公表公報
Application number (International application number)：2001534183
Publication number (International publication number)：2003513439
Application date： Sep. 20, 2000
Publication date： Apr. 08, 2003
Summary：

【要約】【解決手段】プラズマ処理装置において、プラズマドーピングチャンバ内で互いに離隔されたアノード及びカソードによって画成される一次キャパシタと並列に接続された二次キャパシタを与えることによって電流測定値から変位電流が除去される。二次キャパシタは一次キャパシタと同じ若しくはほぼ同じ容量を有するよう選択若しくは調節される。電圧パルスが一次及び二次キャパシタの両方に印加されるとき、キャパシタを流れるそれぞれの電流が測定される。電圧パルスの立上り及び立下り端に存在する変位電流の効果を除去するために及びドーピングチャンバ内のイオン電流を測定するために、二次キャパシタを流れる二次電流は一次キャパシタを流れる一次電流から減算される。

Claim (excerpt)：

電圧パルスが第1及び第2電極を横切って印加されるところの第1及び第2電極を含むプラズマ処理装置内のイオン電流を測定するための方法であって、(a)電圧パルスを受け取るべく第1及び第2電極間にキャパシタを電気的に接続する工程と、(b)電圧パルス中に第1及び第2電極に供給された第1電流を測定し、該第1電流を表す第1電流信号を与える工程と、(c)電圧パルス中にキャパシタに供給される第2電流を測定し、該第2電流を表す第2電流信号を与える工程と、(d)イオン電流を表すイオン電流信号を与えるべく第1電流信号から第2電流信号を減算する工程と、から成る方法。

IPC (3)：

H01L 21/265 ,  C23C 14/48 ,  H01J 37/32

FI (4)：

C23C 14/48 B ,  H01J 37/32 ,  H01L 21/265 F ,  H01L 21/265 T

F-Term (2)：

4K029DE01 ,  4K029EA09