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J-GLOBAL ID：200903002963060694
三次元分子構造解析法
Inventor：
,
Applicant, Patent owner：
,
Agent (1)：
中村 稔 (外6名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1992302293
Publication number (International publication number)：1994148101
Application date： Nov. 12, 1992
Publication date： May. 27, 1994
Summary：
【要約】 (修正有)【構成】 三次元分子構造解析法であって、(1) H、K、L、F、及びFの標準偏差を含む被験分子単結晶のX線回折データを用いて該結晶の空間群を決定する工程;(2) 上記空間群で規定された範囲についてフーリエ変換して電子密度図を作成する工程;(3) 重み付きフーリエ変換を行って電子密度図を得ることを所定の回数行う工程;(4) 電子密度図について算出されたR因子が閾値を下回る場合に、必要により精密化を行った後に分子構造図の出力を行う工程;(5) R因子が閾値以上の場合には、必要により精密化を行った後に分子構造図の出力を行う工程;を含む方法。【効果】 X線回折データの解析を完全に自動化することができ、短時間で分子構造を精度よく解明することが可能である。
Claim (excerpt)：
三次元分子構造解析法であって、(1) H、K、L、F、及びFの標準偏差を含む被験分子単結晶のX線回折データを用いて該結晶の空間群を決定する工程;(2) H、K、L、F、及び上記X線回折データから位相決定法1により求めた位相角およびFより導かれる規格化構造因子を用いて、上記空間群で規定された範囲についてフーリエ変換して電子密度図を作成する工程;(3) 直前に得られた電子密度図上で強度の強い順に選択されたNの0.6〜1.0倍個のピーク(ただし、Nは該被験分子の原子数から水素原子数を引いた数を示す。)について得られた位相角、並びに上記空間群決定工程(1) で用いたH、K、L、及びFを用いて、重み付きフーリエ変換を行って電子密度図を得ることを所定の回数行う工程;(4) 上記重み付きフーリエ変換工程(3) で得られた電子密度図について算出されたR因子が閾値を下回る場合に、必要により精密化を行った後に分子構造図の出力を行う工程:(5) 上記重み付きフーリエ変換工程(3) で得られた電子密度図について算出されたR因子が閾値以上の場合には、位相決定法1とは実質的に異なる位相決定法2を用いて上記(2) ないし(3) の工程を行い、必要により精密化を行った後に分子構造図の出力を行う工程;を含む方法。
IPC (2)：
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