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J-GLOBAL ID:200903002989459170

二重らせん分子からなる人工二重らせん高分子の製造方法

Inventor:
Applicant, Patent owner:
Agent (1): 佐伯 憲生
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):2007266914
Publication number (International publication number):2009096827
Application date: Oct. 12, 2007
Publication date: May. 07, 2009
Summary:
【課題】 従来の方法では、一組の二重らせんの形成と同時に、別の二重らせん間でコンプレックスを形成することが避けられず、高純度の二重らせん高分子、二重らせん超分子を製造することは困難であったが、本発明は、これらの点を改善して分子構造的に不揃いな部分を無くし、ほぼ完全に構造的に揃った相補的人工二重らせん高分子を製造する方法を提供する。【解決手段】 本発明は、2種類の異なる分子を会合させて相補的な二重らせん構造を有する会合体を予め形成させた後、これらを重合させることにより、相補的な人工の二重鎖らせん高分子を製造する方法に関する。【選択図】 なし
Claim (excerpt):
2種類の異なる分子を会合させて相補的な二重らせん構造を有する会合体を予め形成させた後、これらを重合させることにより、相補的な人工の二重鎖らせん高分子を製造する方法。
IPC (1):
C08G 61/12
FI (1):
C08G61/12
F-Term (4):
4J032BA12 ,  4J032BB03 ,  4J032CB03 ,  4J032CD01
Patent cited by the Patent:
Cited by applicant (5)
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Cited by examiner (4)
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Article cited by the Patent:
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