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J-GLOBAL ID：200903003012339164

洗浄剤組成物

Inventor： 友田 恭子 ,  川井 康弘 ,  岡本 好弘
Applicant, Patent owner： サンスター株式会社
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1993352007
Publication number (International publication number)：1995292386
Application date： Dec. 29, 1993
Publication date： Nov. 07, 1995
Summary：

【要約】【目的】 皮膚や眼に対する刺激が低く、しっとりしなやかな感触を付与し、しかも良好な洗浄性を有する洗浄剤組成物を提供する。【構成】 対イオンにマグネシウムを含有するスルホコハク酸マグネシウム系界面活性剤(a)、ポリオキシエチレンアルキルエーテル硫酸塩(b)および第四級窒素含有ポリマー(c)からなり、(a):(b)の配合比がモル比で0.001:1〜3:1である洗浄剤組成物。

Claim (excerpt)：

(a)式(1):【化1】[式中、R1は炭素数6〜22の直鎖又は分岐鎖のアルキル基、又はアルケニル基、糖アルコール残基を示す。X1及びX2は一方が -SO3M2 1/m、他方が水素原子を示す。Aは-O-(BO)n1又は-CONH-(BO)n2を示し、n1は0〜20の整数、n2は1〜20の整数を示す。Bは炭素数2〜4のアルキレン基又はヒドロキシアルキレン基を示す。M1、M2の少なくとも一つはマグネシウムであり、もう一方が水素原子、アルカリ金属、アルカリ土類金属、アンモニア又は炭素数2あるいは3のヒドロキシアルキル基を有する低級アルカノールアミンを示す。mは1または2でイオン価を示す。]で示されるスルホコハク酸マグネシウム系界面活性剤と、(b)式(2):【化2】[式中、R2は炭素数8〜18の直鎖又は分岐鎖のアルキル基を示す。n3は0〜10の整数を示す。M3は、アルカリ金属、アルカリ土類金属、アンモニア又は炭素数2あるいは3のヒドロキシアルキル基を有する低級アルカノールアミンを示す。]で示されるポリオキシエチレンアルキルエーテル硫酸エステル塩および(c)第四級窒素含有ポリマーを配合してなる洗浄剤組成物において、(a)と(b)の配合量がモル比で0.001:1〜3:1であることを特徴とする洗浄剤組成物。

IPC (6)：

C11D 1/37 ,  A61K 7/075 ,  A61K 7/50 ,  C11D 3/37 ,  C11D 1:28 ,  C11D 1:29

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (4)

• 特開平2-107698
  
• 特開平1-259098
  
• 特開平1-216913
  
• 特開平2-129296